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J-GLOBAL ID:201802247665788716   整理番号:18A1305757

オキソトリアルキルタングステンふっ化物錯体の合成と高温で脱ヒドロキシル化したシリカとの二重反応性【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of an oxo trialkyl tungsten fluoride complex and its dual reactivity with silica dehydroxylated at high temperature
著者 (13件):
資料名:
巻: 869  ページ: 11-17  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0412C  ISSN: 0022-328X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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新規錯体W(=O)Np_3Fを,AgBF_4による対応する塩化物対応物のフッ素化によって調製した。700°Cで脱ヒドロキシル化したシリカとこの錯体の反応性は,明確なシリカ担持モノポダルタングステンオキソトリアルキル表面種(≡SiO)W(=O)Np_3を与えた。反応は,フッ化物に対するケイ素の親和性により,Si-Fフラグメントの形成により,W-F結合のシラン分解とシロキサン架橋の開口の両方により進行した。得られた表面種を元素分析,DRIFT,固体NMR及びEXAFS分光法により特性化した。その表面上にフッ素を示すこの材料は,モノポッド対応物(≡SiO)W(=O)Np_3(W(=O)Np_3Clから調製した)と比較してプロピレン自己メタセシスにおいて増強された触媒活性を示し,Wの近くのSi-FがWの電子密度を減少させ,オレフィン基質に対する反応性を増加させることを示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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第6族,第7族元素の錯体  ,  有機第6族・有機第7族元素化合物 
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