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J-GLOBAL ID：201802249026843470   整理番号：18A1248004

スパッタリング法により堆積した色素劣化増強のための高度に光安定なZnドープTiO_2薄膜ナノ構造【JST・京大機械翻訳】

Highly photostable Zn-doped TiO₂ thin film nanostructures for enhanced dye degradation deposited by sputtering method

著者 (5件)： Sreedhar M. (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai 600119, India) ,  Neelakanta Reddy I. (School of Mechanical Engineering, Yeungnam University, Gyeonsanbukdo 712-749, Republic of Korea) ,  Reddy Ch. Venkata (School of Mechanical Engineering, Yeungnam University, Gyeonsanbukdo 712-749, Republic of Korea) ,  Shim Jaesool (School of Mechanical Engineering, Yeungnam University, Gyeonsanbukdo 712-749, Republic of Korea) ,  Brijitta J. (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai 600119, India)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 85  ページ： 113-121  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZnドープTiO_2薄膜を基板温度300°Cで種々のZnドーパント濃度のRFスパッタリング法を用いてガラス基板上に堆積した。X線回折(XRD),電界放出走査電子顕微鏡(FESEM),原子間力顕微鏡(AFM),UV-Vis分光法,およびX線光電子分光法(XPS)を用いて,調製した薄膜の結晶構造,表面形態,透過率,元素組成,酸化状態,および分解を分析した。TiO_2のアナターゼ相を被覆薄膜で観察した。約77%の最大透過率と~3.12eVの最低バンドギャップを達成した。膜の粗さはZn濃度と共に増加し,~15.23nmの粗さが観察された。フェノールレッド染料を用いて光触媒分解活性を試験し,~58%の最大染料分解を達成した。さらに,5サイクル後でも,光触媒活性に用いた薄膜では,構造的または表面化学的変化は見られず,これは,膜が高い光安定性を示すことを示している。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 透過率 ,  アナターゼ ,  *色素 ,  *亜鉛 ,  *薄膜 ,  X線回折 ,  染料 ,  バンドギャップ ,  *ドーピング ,  光触媒 ,  ドーパント ,  結晶構造 ,  *ナノ構造 ,  スルトン ,  診断用薬 ,  フェノール類 ,  芳香族縮合化合物 ,  ジオール
準シソーラス用語： 光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Zn-TiO_2 ,  光学的性質 ,  光触媒 ,  染料劣化 ,  薄膜

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： フェノールレッド

タイトルに関連する用語 (8件)： スパッタリング法 ,  堆積 ,  色素 ,  増強 ,  Zn ,  ドープ ,  薄膜 ,  ナノ構造