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J-GLOBAL ID：201802249059620283   整理番号：18A0709852

カソード線とVUV励起による修飾ジルコニウムケイ酸塩フレームワークのUV Cルミネセンス【JST・京大機械翻訳】

UV C luminescence of a modified zirconium silicate framework upon cathode ray and VUV excitation

著者 (5件)： Gerdes Rolf (Tailorlux GmbH, Fraunhoferstr. 1, D-48149 Muenster, Germany) ,  Gerdes Rolf (Inorganic Chemistry I, University of Osnabrueck, Barbarastr. 7, D-49069 Osnabrueck, Germany) ,  Enseling David (Research Group Tailored Optical Materials, University of Applied Sciences Muenster, Stegerwaldstrasse 39, D-48565 Steinfurt, Germany) ,  Haase Markus (Inorganic Chemistry I, University of Osnabrueck, Barbarastr. 7, D-49069 Osnabrueck, Germany) ,  Juestel Thomas (Research Group Tailored Optical Materials, University of Applied Sciences Muenster, Stegerwaldstrasse 39, D-48565 Steinfurt, Germany)
資料名： Journal of Luminescence  (Journal of Luminescence)
巻： 198  ページ： 410-417  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0731A  ISSN： 0022-2313  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,組成K_2MSi_2O_7(M=Zr,Hf)およびSrZrSi_2O_7に従って,ケイ酸塩のカソード(CL)および光ルミネセンス(PL)に関するものである。また,それはK_2ZrSi_2O_7とSrZrSi_2O_7のバンドギャップ決定に関連し,前者で5.6eV,後者の化合物で5.0eVと決定された。HfによるZrの置換によるK_2ZrSi_2O_7の改質により,20%Hfの導入は材料のPLを改善し,一方,Hf4+によるZr4+の完全置換は電荷移動ベースのルミネセンス過程を完全に消光することを示した。ルミネセンスの消光もLn3+(Ln=Ce,Pr,Tb)の取り込みで観測された。K_2(Zr,Hf)Si_2O_7の発光バンドはUV-C範囲において良く位置し,Lu_2Si_2O_7:PR,すなわち約55%のそれに近い殺菌活性化曲線(GAC)との重なりをもたらす。この発見は,殺菌装置に使用される放射線源のための興味深い化合物として材料をブランドする。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ルミネセンス ,  ハフニウム ,  *ジルコニウム ,  殺菌作用 ,  *カソード ,  蛍光体 ,  殺菌装置 ,  発光 ,  光ルミネセンス ,  電荷移動 ,  線源 ,  *ケイ酸塩 ,  *励起

著者キーワード (7件)： 陰極ルミネセンス ,  光学バンドギャップ ,  光ルミネセンス ,  TAUCプロット ,  UV-C蛍光体 ,  VUV分光法 ,  ジルコンけい酸塩

分類 (2件)： 無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： カソード線 ,  VUV ,  励起 ,  修飾 ,  ジルコニウム ,  ケイ酸塩 ,  フレームワーク ,  ルミネセンス