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J-GLOBAL ID：201802249091862103   整理番号：18A0903113

分光エリプソメータのキャリブレーション方法【JST・京大機械翻訳】

A calibration method for spectroscopic ellipsometer

著者 (5件)： Han Zhiguo (中国電子科技集団公司第十三研究所,河北 石家庄,050051) ,  Li Suoyin (中国電子科技集団公司第十三研究所,河北 石家庄,050051) ,  Zhao Lin (中国電子科技集団公司第十三研究所,河北 石家庄,050051) ,  Feng Yanan (中国電子科技集団公司第十三研究所,河北 石家庄,050051) ,  Liang Faguo (中国電子科技集団公司第十三研究所,河北 石家庄,050051)
資料名： Zhongguo Ceshi  (Zhongguo Ceshi)
巻： 43  号： 12  ページ： 1-6  発行年： 2017年 
JST資料番号： C3059A  ISSN： 1674-5124  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： スペクトル型エリプソメータの較正結果の測定模型の影響が大きい問題に対して研究を行い、測定模型の影響を受けない校正方法を提出し、即ち、校正楕円角によるスペクトル型エリプソメータの校正を実現した。エリプソメータの測定原理に従い、シミュレーション分析を通じて、比較的広い範囲の楕円角校正に必要な標準サンプルの薄膜厚さの値を測定し、半導体熱酸化プロセスを用いて、性能安定の膜厚標準試料を作製した。M-2000XF分光エリプソメータの偏光角を標準試料を用いて較正し,厚さ2,50,500nmの偏光角の偏差は,それぞれ,±0.6°,±1.5°,±2°以内であった。膜厚に及ぼすこの偏差の影響は±0.5nm以下であった。この方法はエリプソメータの測定モデルの影響を受けず、スペクトル型エリプソメータの校正問題を有効に解決することができる。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 標準片 ,  偏光角 ,  *スペクトロスコピー ,  *エリプソメータ ,  薄膜 ,  半導体 ,  スペクトル ,  シミュレーション ,  膜厚
準シソーラス用語： 測定モデル ,  計測原理 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： spectroscopic ellipsometer ,  elliptic angle calibration ,  film-thickness standard sample ,  simulation

分類 (1件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 分光 ,  エリプソメータ ,  キャリブレーション