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J-GLOBAL ID:201802249180725717   整理番号:18A0129373

水溶液からニッケルイリジウム合金膜の電着【Powered by NICT】

Electrodeposition of nickel-iridium alloy films from aqueous solutions
著者 (7件):
資料名:
巻: 434  ページ: 307-317  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ニッケルイリジウム(Ni Ir)合金膜を,定電流条件下での銅基板上に水溶液から電着した。膜のFaraday効率(FE),部分電流密度,化学組成,形態および結晶構造に及ぼす浴組成と堆積時間の効果を調べた。結果は44%とFEで37Ir含有量のNi-Ir合金が得られたことを示した。クエン酸の濃度の増加は合金の組成にほとんどまたは全く影響を及ぼさなかったが,NiとIrのFEと部分電流密度の有意な減少をもたらした。FEとNiの部分電流密度はIr~3+濃度の増加とともにわずかに減少し,しかし,Ir含有量が増加するIrの部分電流密度は安定のままであった。Ni~2+濃度の増加はFEの増加とNi-Ir堆積速度をもたらすことができ,表面上に形成された亀裂は認められなかった。膜の表面平均粗さと平方自乗平均粗さは6.8±0.3nmと5.4±0.3nmであった。混合相はかなりの量のNi酸化物の表面上の金属Ni,Ir,Ir酸化物の少量を含んでいた。アルゴンイオンスパッタ洗浄後,膜は主に金属NiおよびIrから成っていた。膜は非晶質とナノ結晶相から成っていた。析出物中のNi含有量は電解質中で,Ni-Ir合金の共析出が正常堆積したそれよりも高かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
分類
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金属薄膜  ,  電極過程  ,  電気化学反応  ,  電気めっき 
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