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J-GLOBAL ID：201802249413581761   整理番号：18A2105553

NdドープBaSnO_3透明薄膜の優れた構造,光学および電気特性【JST・京大機械翻訳】

Excellent structural, optical, and electrical properties of Nd-doped BaSnO₃ transparent thin films

著者 (9件)： Fan Fang-Yuan (Key Laboratory of Optoelectronic Material and Device, Department of Physics, Shanghai Normal University, Shanghai 200234, China) ,  Zhao Wei-Yao (ISEM, Innovation Campus, University of Wollongong, Wollongong, NSW 2500, Australia) ,  Chen Ting-Wei (School of Materials Science and Engineering, Nanchang University, Nanchang 330031, China) ,  Yan Jian-Min (State Key Laboratory of High Performance Ceramics and Superfine Microstructure, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Ma Jin-Peng (Key Laboratory of Optoelectronic Material and Device, Department of Physics, Shanghai Normal University, Shanghai 200234, China) ,  Guo Lei (State Key Laboratory of High Performance Ceramics and Superfine Microstructure, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China) ,  Gao Guan-Yin (Hefei National Laboratory for Physical Sciences at Microscale, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China) ,  Wang Fei-Fei (Key Laboratory of Optoelectronic Material and Device, Department of Physics, Shanghai Normal University, Shanghai 200234, China) ,  Zheng Ren-Kui (School of Materials Science and Engineering, Nanchang University, Nanchang 330031, China)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 113  号： 20  ページ： 202102-202102-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 7molをエピタキシャル成長させた。二重側面研磨SrTiO_3(001)単結晶基板上の%NdドープBaSnO_3(NBSO)薄膜を,優れた構造,光学,および電気性能を達成するために,酸素圧(P_O2),基板温度(T_S),および膜厚(t)を最適化した。T_S(=800°C)定数を保つことにより,P_O2=10Paで調製したNBSO膜は最良の結晶化を示し,0.079°のX線回折ロッキング曲線の半値全幅(FWHM)を示し,~1.85mΩcmの室温抵抗率(ρ)と~8.5×10~20/cm~3の体積キャリア密度(n)を示した。P_O_2(=10Pa)定数を保つことによって,NBSO膜の室温ρは,700から825°までT_Sを増やすことによって,0.5mΩcmの低さに減少することができた。一方,体積キャリア密度と移動度は,T_S=825°Cで,それぞれ5.04×1020/cm3と24.9cm2/Vsの最大値を示した。全ての成長したNBSO薄膜に対して,可視波長領域における光透過率は80%以上であった。FWHM=0.11°,ρ=0.5mΩcm,μ=24.9cm~2/Vs,およびT>80%を有するNBSO膜の最適化された包括的性質は,他の希土類および4d-および5d-遷移金属ドープBaSnO_3薄膜のものより優れていた。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶化 ,  研磨 ,  電気抵抗率 ,  移動度 ,  *ドーピング ,  膜厚 ,  最適化 ,  キャリア密度 ,  ロッキングカーブ ,  FWHM ,  X線回折 ,  *薄膜 ,  希土類元素
準シソーラス用語： 剪断波速度 ,  酸素分圧 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (5件)： Nd ,  ドープ ,  薄膜 ,  光学 ,  電気特性