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J-GLOBAL ID：201802249843561782   整理番号：18A0610196

ハイブリッドエポキシシクロヘキシルPOSSからの3Dシリカ様微細構造のフェムト秒レーザ直接描画【Powered by NICT】

Femtosecond Laser Direct Writing of 3D Silica-like Microstructure from Hybrid Epoxy Cyclohexyl POSS

著者 (7件)： Fang Gan (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technologies, Chinese Academy of Sciences, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Cao Hongzhong (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technologies, Chinese Academy of Sciences, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Cao Hongzhong (Chongqing Key Laboratory of Additive Manufacturing Technology and Systems, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Cao Liangcheng (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technologies, Chinese Academy of Sciences, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Cao Liangcheng (Chongqing Key Laboratory of Additive Manufacturing Technology and Systems, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Duan Xuanming (Chongqing Institute of Green and Intelligent Technologies, Chinese Academy of Sciences, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China) ,  Duan Xuanming (Chongqing Key Laboratory of Additive Manufacturing Technology and Systems, Fangzheng Avenue 266, Chongqing, 400714, China)
資料名： Advanced Materials Technologies  (Advanced Materials Technologies)
巻： 3  号： 3  ページ： ROMBUNNO.201700271  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2485A  ISSN： 2365-709X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学的透明度,高い熱及び機械的安定性のシリカ様ハイブリッド材料としてエポキシシクロヘキシル多面体オリゴマーシルセスキオキサン(エポキシ-POSS)の重要性を考えると,UVリソグラフィーとフェムト秒レーザ直接描画のための光酸発生剤としてのジフェニルヨードニウムヘキサフルオロりん酸塩を用いたエポキシ-POSSの二光子開始重合を研究した。ハイブリッドレジストは高い熱安定性を示し,空気中とアルゴン中で焼成すると分解温度は約350°Cと400°Cであることが分かった。対応するか焼生成物を,C_1 5SiO_3とC_5SiO_3の化学式を伴ったシリカのような構造,エネルギー分散型X線分析(EDX),Fourier変換赤外分光法(FTIR),および元素分析によって証明されたように,ことが分かった。レーザ(P_laser)と走査速度(V)の強度の関数としての二光子重合した線幅に関する方程式は,重合した線上のGauss光の影響を記述するのに提案した。方程式の実験的検証は非線形光学過程を証明した。250nmの分解能で線幅は,ガラス基板上に達成され,シリコンウエハ上に作製したとき分解能は400nmであった。3D構造ウッドパイルを作製し,空気環境中,300°Cか焼で体積収縮を示し,高い熱安定性を実証していない。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： FTIR分光法 ,  熱安定性 ,  透明度 ,  フルオロリン酸塩 ,  *三次元 ,  分解能 ,  *微細構造 ,  重合 ,  元素分析 ,  *フェムト秒 ,  リソグラフィー ,  *フェムト秒レーザ ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： 線幅 ,  *レーザ直接描画 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： フェムト秒レーザ書込みを指示する ,  多面体オリゴマ状シルセスキオキサン ,  2光子重合 ,  ・ウッドパイル

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： POSS ,  3D ,  シリカ ,  微細構造 ,  フェムト秒レーザ ,  直接描画