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J-GLOBAL ID：201802250435946681   整理番号：18A1633343

2レーザー光照射によるジアリールエテンの2光子イオン化

Two-Photon Ionization of Diarylethene by Using Two-Laser Irradiation

著者 (3件)： 原道寛 (福井工大) ,  箕崎知香 (福井工大) ,  竹下達哉 (福井工大)
資料名： 福井工業大学研究紀要(CD-ROM)  (Memoirs of Fukui University of Technology (CD-ROM))
号： 48  ページ： 75-82  発行年： 2018年06月30日 
JST資料番号： X0305B  ISSN： 1884-4456  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シクロデキストリン(CD)の存在中,ジアリールエテン1,2-ビス(2-メチルベンゾ[B]チオフェン-3-イル)-3,3,4,4,5,5-ヘキサフルオロシクロペンテン(DEph)(DEph/CD)の2光子イオン化を355nmレーザパルスおよび355レーザパルスと532レーザパルス(355*532nm)の同時照射を用いて調べた。加えて,DEph/CDの光イオン化効率を,266nmレーザパルスおよび266nmレーザパルスと532nmレーザパルス(266*532nm)の同時照射を用いて得られた以前の結果と比較した。355レーザパルスを用いて得られたDEph/CDのイオン化量子収率(Φ_イオン)は,CDへのDEphの導入の結果から環化反応の抑制によって増加した。355*532nmレーザパルスを用いて得られたイオン化収率(Y_イオンは,355nmレーザパルス照射下,測定されたものより大きく,これはDEphの光イオン化が355nmレーザパルスと532nmレーザパルスで段階的に励起されることで進行することを示した。加えて,DEph/CDのΦ_ionとY_ionは,それぞれ266nmレーザパルスと266*532nmレーザパルスを用いて得られた以前の結果と異なった。異なるΦ_ionとY_ionが266nmと355nmにおいてDEphの単一励起状態の異なるモル吸収係数に起因することが示された。結果として,可視光と組み合わされたUV-A照射下,DEph/CDの光イオン化を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 光照射 ,  シクロデキストリン ,  *オレフィン化合物 ,  *芳香族炭化水素 ,  *光イオン化 ,  レーザ照射 ,  レーザパルス ,  量子収量 ,  紫外線照射 ,  *ジアリールエテン

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザー光照射 ,  ジアリールエテン ,  2光子 ,  イオン化