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J-GLOBAL ID:201802250448746784   整理番号:18A1131514

SAPO-11分子ふるいのSi分布と表面酸性度の調節【JST・京大機械翻訳】

The regulation of Si distribution and surface acidity of SAPO-11 molecular sieve
著者 (12件):
資料名:
巻: 453  ページ: 350-357  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Si分布はSAPO-11分子ふるいの表面酸性度と触媒性能に強く影響した。本論文では,種々のSi分布と表面酸性度を有するSAPO-11をヒドロゲル合成温度を制御することによって調製して,この制御効果のための可能な機構を考察した。より高いヒドロゲル合成温度は初期ゲルにおける層状中間体の形成を阻害したが,Siの骨格への取り込みと予備結晶化におけるSAPO-11結晶の成長を促進した。それは,Si島の濃度を増加させることができ,最終生成物の表面上に,より少ないBroensted酸サイトを発生させることができた。対照的に,ヒドロゲルがより低い温度で調製され,より多くのBroensted酸部位を生成する時に,SAPO-11の骨格においてより孤立したSi種が形成された。さらに,外部表面上のBroensted酸部位の濃度は,ヒドロゲル合成温度の20°Cで調製した試料で最大になった。この研究は,余分な試薬なしでSAPO-11分子ふるいのSi分布と表面酸性度を制御する簡単なルートを提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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吸着剤 

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