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J-GLOBAL ID:201802251279450378   整理番号:18A0141585

ブースト水素発生へのSchottky触媒としてMoB/g C_3N_4界面材料【Powered by NICT】

MoB/g-C3N4 Interface Materials as a Schottky Catalyst to Boost Hydrogen Evolution
著者 (11件):
資料名:
巻: 130  号:ページ: 505-509  発行年: 2018年 
JST資料番号: A0396A  ISSN: 0044-8249  CODEN: ANCEAD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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金属触媒上でのプロトン吸着は効率的な水素発生反応(HER)のための前提条件である。しかし,金属性を乱すことなく,プロトン吸着を調整する課題として残っている。金属-半導体接合原理に基づくSchottky触媒を提示した。金属MoBでは,n型半導体g C_3N_4の導入はMoB/g C_3N_4Schottky接合を横切る活発な電荷移動を誘導し,MoB表面における局所電子密度,複数の分光分析技術による確認を増加させた。Schottky触媒は低いTafel勾配46mV dec~ 1と17μA cm~ 2の高い交換電流密度を有する優れたHER活性,元MoBのそれよりもはるかに優れたを示した。第一原理計算は,Schottky接触は,プロトン吸着と還元座標の両方の速度論的障壁を劇的に下げることを明らかにし,表面水素発生に有利である。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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電気化学反応 
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