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J-GLOBAL ID：201802251564681132   整理番号：18A0929354

傾斜マスクで遮蔽されたプラズマ高分子膜における横方向化学勾配の形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of lateral chemical gradients in plasma polymer films shielded by an inclined mask

著者 (7件)： Vandenbossche Marianne (Laboratory of Advanced Fibers, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland) ,  Petit Laurene (Laboratory of Advanced Fibers, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland) ,  Mathon-Lagresle Julie (Laboratory of Advanced Fibers, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland) ,  Spano Fabrizio (Laboratory for Biomimetic Membranes and Textiles, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland) ,  Rupper Patrick (Laboratory of Advanced Fibers, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland) ,  Bernard Laetitia (Laboratory for Nanoscale Materials Science, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, UEberlandstrasse 129, Duebendorf, 8600, Switzerland) ,  Hegemann Dirk (Laboratory of Advanced Fibers, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Lerchenfeldstrasse 5, St. Gallen, 9014, Switzerland)
資料名： Plasma Processes and Polymers  (Plasma Processes and Polymers)
巻： 15  号： 4  ページ： e1700185  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1950A  ISSN： 1612-8850  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低圧プラズマ蒸着条件を研究し,基板を部分的に遮蔽する傾斜静的マスクにより酸素含有横勾配被覆(a-C:h:O)を得た。このような横方向勾配被覆はマスクの下で異なる反応性を持つ膜形成種の拡散によって形成される。表面特性化により,マスク/プラズマ端からの距離の増加による直接プラズマ曝露と異なるマスク下での膜成長条件の変化を明らかにした。2)厚さ傾向に従った粗さの減少;III)親水性の低下;IV)架橋の変化;v)異なる化学組成。酸素リッチ膜形成種はマスク/プラズマ端に近く反応するように見えたが,酸素欠乏膜形成種はより深く拡散し,化学組成の顕著な勾配とマスク領域の架橋をもたらした。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *プラズマ ,  薄膜成長 ,  *高分子膜 ,  プラズマCVD ,  酸素欠乏 ,  表面性状 ,  化学組成 ,  低圧 ,  親水性 ,  被覆 ,  プラズマ曝露 ,  反応性
準シソーラス用語： 薄膜形成 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 拡散 ,  フィルム形成種 ,  横方向勾配構造 ,  プラズマ重合 ,  静的マスク

分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (7件)： マスク ,  遮蔽 ,  プラズマ ,  高分子膜 ,  横方向 ,  化学 ,  勾配