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J-GLOBAL ID：201802252231381773   整理番号：18A1218684

ゾル-ゲル法で高Mg含有量Zn1-xMgxO薄膜を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Preparation of High Mg Content Zn1-xMgxO Thin Films by Sol-gel Method

著者 (2件)： Li Maoquan (武漢理工大学材料科学与工程学院,武漢,430070) ,  Dai Ying (武漢理工大学材料科学与工程学院,武漢,430070)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 46  号： 11  ページ： 2228-2232  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ZB1-xMgxO薄膜をゾル-ゲル法で調製し,高Mg含有量のZn0.5Mg0を焼なました。5O薄膜の相組成、相偏析及び紫外-可視透過スペクトルにおける吸収端移動の影響、アニーリング温度≦500°Cの時、Zn0.5Mg0.5O薄膜は相偏析現象が発生しなかった。従って、高Mg含有量のZn0.5Mg0.5O薄膜に対して、アニーリング温度はMg2+のZnO中の固溶度を影響する肝心な要素であり、400°Cは理想的なアニーリング温度である。これらの条件下で,Zn1-xMgO(x=00.8)薄膜のバンドギャップに及ぼすMg含有量の影響を,Mg含有量の増加とともに研究した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,  *マグネシウム ,  相組成 ,  *ゾル-ゲル法 ,  バンドギャップ ,  吸収端 ,  *薄膜 ,  相分離 ,  固溶度
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  透過スペクトル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Zn1-xMgx O thin film ,  sol-gel method ,  bandgap adjustment ,  annealing temperature

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル ,  ゲル ,  Mg ,  含有量 ,  薄膜 ,  調製