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J-GLOBAL ID:201802252774172990   整理番号:18A1816254

不動態化シリコン太陽電池の反射防止膜系設計に対する分散効果の影響【JST・京大機械翻訳】

Dispersion effect on optimized design of anti-reflection coatings for passivated silicon solar cells dispersion
著者 (3件):
資料名:
巻: 47  号:ページ: 192-199  発行年: 2018年 
JST資料番号: C2521A  ISSN: 1007-2276  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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屈折率分散効果を考慮し、加重平均反射率を評価関数とし、知能最適化アルゴリズムにより空間シリコン太陽電池反射防止膜の最適化設計を行い、最適な膜厚パラメータを得て、分散なしで設計した反射防止膜と比較した。MgF2/TiO2,SiO2/TiO2二層反射防止膜に対して,分散を考慮しない場合と比較して,分散最適化後の最小加重平均反射率は,それぞれ,36.6%と37.6%減少した。15nm厚さのSiO2不動態化層を有するシリコン太陽電池のMgF2/TiO2,SiO2/TiO2反射防止膜の再設計を最適化し,分散を考慮しない場合と比較して,分散最適化後の最小加重平均反射率は,それぞれ43.9%と33減少した。7%;異なる厚さの不動態化層を持つ宇宙シリコン太陽電池に対して、分散を考慮して反射防止膜の最適化設計を行った。その結果,不動態層の厚さが増加すると,反射防止膜の最小加重平均反射率が大きくなり,反射低減効果が弱くなることが分かった。最後に,分散を考慮していない場合,不動態層膜厚を反転パラメータとして再設計した。その結果;MgF2/TiO2/SiO2(不動態層)膜系に対して,最適膜厚パラメータは,分散条件下で,d1(MgF2)=97.6nm,d2(TiO2)=40.2nm,d3(SiO2)=4.9nmであった。SiO2/TiO2/SiO2(不動態化層)に対して,最適膜厚パラメータはd1(SiO2)=85.1nm,d2(TiO2)=43.4nm,d3(SiO2)=1.8nmであった。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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光デバイス一般  ,  物理学一般  ,  酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (4件):
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