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J-GLOBAL ID：201802253169121475   整理番号：18A2114123

RFマグネトロンスパッタリングによる酸化第一銅薄膜の合成【JST・京大機械翻訳】

SYNTHESIS OF CUPROUS OXIDE THIN FILMS BY RF-MAGNETRON SPUTTERING

著者 (2件)： LI WENHAO (Laboratory of Optoelectronics Materials and Devices, School of Science, Beijing University of Posts and Telecommunications, Beijing 100876, P. R. China) ,  LI WENHAO (State Key Laboratory of Information Photonics and Optical Communications, Beijing University of Posts and Telecommunications, Beijing 100876, P. R. China)
資料名： Surface Review and Letters  (Surface Review and Letters)
巻： 25  号： 2  ページ： 1850051  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1109A  ISSN： 0218-625X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化第一銅(Cu_2O)薄膜を,高周波マグネトロンスパッタリング技術により,α-Al_2O_3(000l)基板上の金属Cuターゲットから製造した。基板温度,ガス流およびスパッタリングパワーをそれぞれ変調することにより,種々のスパッタリングパラメータの下で3バッチの試料を蒸着した。試料をX線回折と電界放出型走査電子顕微鏡で特性化した。実験を通して,スパッタリング条件の影響を系統的に調べた。Cu_2O薄膜における結晶化度と結晶配向は主に温度交換に依存し,膜形態の変化に寄与すると推論した。さらに,ガス流は膜中の銅イオンの原子価に影響し,スパッタリングパワーは主に膜の成長速度に影響した。本研究は,適切な形態と有用な特性を有する適切なCu_2O薄膜を堆積するためのより特異なスキームを促進する。Copyright 2018 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶度 ,  キャラクタリゼーション ,  基板 ,  X線回折 ,  *スパッタリング ,  成長速度 ,  X線回折分析 ,  *酸化第一銅 ,  原子価 ,  気体流 ,  形態 ,  *薄膜 ,  結晶方位 ,  パラメータ
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Cu_2O ,  薄膜 ,  結晶構造 ,  サファイア基板

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  酸化第一銅 ,  薄膜