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J-GLOBAL ID：201802253303171264   整理番号：18A0551640

半導体洗浄のための超純水

Ultrapurewater for Cleaning Wafers in Semiconductor Manufacturing

著者 (1件)： 菅原広 (オルガノ株式会社開発センター)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 61  号： 2  ページ： 70-75(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超純水は,ウエハ上の不純物をすすぎ,ウエハ洗浄のための化学溶液を調製するために,本質的に半導体製造の湿式工程において使用される。超純水の品質要件は,半導体設計の進歩に伴いますます高まっている。超高純度水の分析管理項目,浄化設備および生産体系を含む品質ロードマップを概観した。ウエハ汚染によって歩留まり低下を引き起こす微量の粒子と金属不純物を低減する技術の成果を述べた。さらに,超純水中の過酸化水素に関する最近の研究も述べた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *半導体素子 ,  *洗浄 ,  水洗 ,  *ウエハ【IC】 ,  *超純水 ,  製造 ,  工程 ,  浄水 ,  不純物 ,  除去 ,  過酸化水素
準シソーラス用語： *半導体デバイス ,  *表面洗浄 ,  半導体製造 ,  湿式工程 ,  水浄化 ,  金属不純物 ,  不純物除去

著者キーワード (10件)： ultrapurewater ,  water quality analysis ,  particle ,  metal ,  hydrogen peroxide ,  ultrapurewater ,  water quality analysis ,  particle ,  metal ,  hydrogen peroxide

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (15件)：

• 1) International Technology Roadmap for Semiconductors, Yield Enhancement Report, 2013 Edition, ITRS.net (2013).
• 2) 久保田昌治 : “超純水の科学”, 第4章超純水の物性, 半導体基板技術研究会編 (リアライズ社, 1990) p. 44.
• 3) M. Murayama, F. Ichihara and H. Sugawara : Ultrapure Water, May, 1-4 (2016).
• 4) F. Ichihara, H. Sugawara, M. Murayama and K. Tsutano : Ultrapure Micro 1(1), 8 (2017).
• 5) F. Ichihara, H. Sugawara, M. Murayama and T. Kondo : UPW Micro 2017 Conference Presentation, Portland, USA (2017).

タイトルに関連する用語 (2件)： 洗浄 ,  純水