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J-GLOBAL ID：201802254556429445   整理番号：18A1567862

Mo濃度の調整による透明および導電性MoドープZnO膜の光学的および電気的性質の臨界研究【JST・京大機械翻訳】

A critical study of the optical and electrical properties of transparent and conductive Mo-doped ZnO films by adjustment of Mo concentration

著者 (3件)： Tirumalareddygari Sreenivasulu Reddy (Department of Physics, Sir Vishveshwaraiah Institute of Science & Technology, Madanapalle 517325, India) ,  Guddeti Phaneendra Reddy (Solar Energy Laboratory, Department of Physics, Sri Venkateswara University, Tirupati 517502, India) ,  Ramakrishna Reddy K.T. (Solar Energy Laboratory, Department of Physics, Sri Venkateswara University, Tirupati 517502, India)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 458  ページ： 333-343  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Moドープ酸化亜鉛(ZnO:Mo)透明導電性薄膜を,一定基板温度,400°Cで0~5at.%の範囲のMoドーピング濃度を変化させることにより,簡単な化学噴霧熱分解法を用いてガラス基板上に調製した。ZnO膜の物理的挙動に及ぼすMoドーピング濃度の影響を調べた。X線光電子分光法(XPS)分析により,+6状態のMoを有する層におけるZn,OおよびMoの存在を確認した。X線回折(XRD)パターンは,二次相のない六方晶系ウルツ鉱型結晶構造を示した。微細構造解析により,基板表面上に球状のナノ粒子が明らかになった。光学的研究により,Moドーピング濃度2at%の膜は,純粋および高MoドープZnO膜よりも高い光透過率および広いバンドギャップを示すことが明らかになった。光透過率対波長データから,屈折率,消光係数,分散定数を評価した。さらに,光伝導率,誘電率,散逸因子,電子エネルギー損失関数およびHazeなどの他の光学パラメータも計算した。FTIR研究はZnOに関連するモードの存在を明らかにした。最後に,ZnO:Mo膜の抵抗率,電荷キャリア移動度および密度のような電気的パラメータも解析し,提示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ウルツ鉱型結晶 ,  微細構造 ,  FTIR分光法 ,  *ドーピング ,  X線光電子スペクトル ,  六方晶系 ,  *モリブデン ,  *酸化亜鉛 ,  誘電率 ,  *導電性 ,  電気抵抗率 ,  X線回折 ,  屈折率 ,  バンドギャップ ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 光透過率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 噴霧熱分解 ,  MoドープZnO膜 ,  XPS分析 ,  光透過率 ,  電気パラメータ

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： Mo ,  導電性 ,  ドープ ,  ZnO ,  光学 ,  電気的性質 ,  臨界 ,  研究