文献

J-GLOBAL ID：201802255303589928   整理番号：18A0865546

マルチアークイオン蒸着TiN-Cu複合膜【JST・京大機械翻訳】

TiN-Cu composite films deposited by multi-arc ion plating

著者 (3件)： Yang Hong (四川大学物理科学与技術学院,成都,610064) ,  Liu Jin (四川大学原子核科学技術研究所教育部輻射物理及技術重点実験室,成都,610064) ,  Shi Yunlong (四川大学物理科学与技術学院,成都,610064)
資料名： Sichuan Daxue Xuebao. Zirankexueban  (Sichuan Daxue Xuebao. Zirankexueban)
巻： 54  号： 2  ページ： 376-380  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2595A  ISSN： 0490-6756  CODEN： SCTHAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： TiN-Cu複合膜を,アークイオンプレーティングによって,種々の電流と堆積時間の下で,ステンレス鋼基板上に堆積し,そして,膜の表面形態,断面形態,相組成,および硬度を,特性評価した。その結果,複合膜中のCu含有量及び蒸着条件が,膜の微細構造及び硬度に重要な影響を及ぼすことが判明した。金属Cuの添加はTiN柱状晶の成長を阻止し,純TiN薄膜の優先配向を変えた。蒸着時間が2時間,パルス負バイアスが200Vのとき,Cu含有量は12.96at%であり,複合膜の硬度は2976HVに達した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *銅 ,  相組成 ,  バイアス ,  ステンレス鋼 ,  優先配向 ,  形態 ,  *蒸着 ,  微細構造 ,  *複合膜 ,  柱状晶 ,  硬度
準シソーラス用語： Cu含有量 ,  表面形態 ,  アークイオンプレーティング ,  *窒化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Multi-arc ion plating ,  Composite film ,  Preferred orientation ,  Hardness

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 蒸着 ,  複合膜