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J-GLOBAL ID：201802255687453287   整理番号：18A1611508

犠牲テンプレートとしての規則性マクロ多孔性ブロック共重合体モノリスを用いた基板パターン形成と毛細管マイクロスタンプ【JST・京大機械翻訳】

Substrate Patterning Using Regular Macroporous Block Copolymer Monoliths as Sacrificial Templates and as Capillary Microstamps

著者 (3件)： Guo Leiming (Institut fuer Chemie neuer Materialien, Universitaet Osnabrueck, Barbarastr. 7, 49069, Osnabrueck, Germany) ,  Philippi Michael (Institut fuer Chemie neuer Materialien, Universitaet Osnabrueck, Barbarastr. 7, 49069, Osnabrueck, Germany) ,  Steinhart Martin (Institut fuer Chemie neuer Materialien, Universitaet Osnabrueck, Barbarastr. 7, 49069, Osnabrueck, Germany)
資料名： Small  (Small)
巻： 14  号： 34  ページ： e1801452  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2348A  ISSN： 1613-6810  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： それらの表面にマクロ孔(直径≒1.1μm,深さ≒0.7μm)の規則配列を含むポリスチレン-block-ポリ(2-ビニルピリジン(PS-b-P2VP)モノリスを用いて,古典的な固体エラストマースタンプの機能性を超えるパターン形成モードにより基板をパターン形成した。最初の典型的応用において,マクロ多孔性PS-b-P2VPモノリスを,NaClナノ結晶とトポグラフパターン化イリジウム膜の堆積のための犠牲テンプレートとして用いた。マクロ孔当たりの1つのNaClナノ結晶は,マクロ孔を満たすNaCl溶液の蒸発とその後のイリジウム被覆によって形成される。熱的PS-b-P2VP分解により,六方晶セルの秩序配列から成るトポグラフパターン化イリジウム膜が得られ,その各々は一つのNaClナノ結晶を含んでいた。第二の典型的応用のために,選択的膨潤誘起細孔生成により,マクロ多孔性PS-b-P2VPモノリス中にスポンジ連続メソ細孔系を生成した。インクによるスポンジ-連続メソ細孔システムの浸透は,高度な光学顕微鏡法と適合するガラススライド上のマクロ孔の位置に孔を持つ連続インク膜の毛細管マイクロスタンピングを可能にする。毛細管マイクロスタンピングは,レインキングなしで,スタンプパターンの品質劣化なしに,周囲条件下で複数回実行することができる。マクロ多孔質PS-b-P2VPモノリスを,二次ポリジメチルシロキサン鋳型による一次マクロ多孔質シリコン鋳型の二重複製により調製した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： インク ,  塩化ナトリウム ,  被覆 ,  六方晶系 ,  イリジウム ,  *パターン形成 ,  ナノ結晶 ,  細孔 ,  ポリジメチルシロキサン
準シソーラス用語： スタンピング ,  メソ孔 ,  *モノリス ,  *マクロポーラス ,  マクロ孔 ,  *スタンプ ,  *犠牲テンプレート , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ブロック共重合体 ,  多孔質材料 ,  複製成形 ,  スタンピング ,  表面パターン形成

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： 犠牲テンプレート ,  規則性 ,  マクロ多孔性 ,  ブロック共重合体 ,  モノリス ,  パターン形成 ,  毛細管 ,  スタンプ