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J-GLOBAL ID：201802256037690188   整理番号：18A0840232

インコネル718SPFにおける表面処理により誘起された微細構造と残留応力に及ぼす温度の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of temperature on microstructure and residual stresses induced by surface treatments in Inconel 718 SPF

著者 (5件)： Telang Abhishek (Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Cincinnati, Cincinnati, OH 45221-0072, USA) ,  Gill Amrinder S. (AK Steel Research Center, Middletown, OH, USA) ,  Mannava Seetha R. (Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Cincinnati, Cincinnati, OH 45221-0072, USA) ,  Qian Dong (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at Dallas, Richardson, TX, USA) ,  Vasudevan Vijay K. (Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Cincinnati, Cincinnati, OH 45221-0072, USA)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 344  ページ： 93-101  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,Inconel718(IN718SPF)試料を3つの表面改質技術で処理した:レーザ衝撃ピーニング(LSP),キャビテーションショットピーニング(CSP)および超音波ナノ結晶表面改質(UNSM)。続いて,これらの試料を異なる時間間隔で550°C~650°Cの温度に曝した。試料表面の残留応力をXRDを用いて測定し,異なる表面処理で処理した試料の熱緩和挙動を比較した。その結果,全ての3つの表面処理により誘起された表面圧縮残留応力は,初期緩和後の高温で安定であることを示した。さらに,TEM顕微鏡写真を,550°Cに5分間と24時間曝露した表面処理試料から得た。熱暴露前後の微細構造を比較した。本研究では,LSP,CSPおよびUNSM処理IN718SPFにおける残留応力緩和の活性化エンタルピーを定量化し,緩和機構を提案した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *残留応力 ,  顕微鏡写真 ,  緩和現象 ,  高温 ,  ナノ結晶 ,  X線回折 ,  *表面処理 ,  *微細構造 ,  表面改質
準シソーラス用語： 活性化エンタルピー ,  残留応力緩和 ,  圧縮残留応力 ,  熱緩和 ,  レーザ衝撃ピーニング ,  Alloy718 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 残留応力 ,  微細構造 ,  X線回折 ,  超合金 ,  レーザ衝撃ピーニング ,  表面処理

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  熱的操作によらぬ硬化  (WC04080O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面処理 ,  誘起 ,  微細構造 ,  残留応力