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J-GLOBAL ID：201802256249306246   整理番号：18A1035205

軟磁性を持つシリコン上のCoベース非晶質薄膜【JST・京大機械翻訳】

Co-based amorphous thin films on silicon with soft magnetic properties

著者 (4件)： Masood Ansar (Microsystems Centre, Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland) ,  McCloskey P. (Microsystems Centre, Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland) ,  Mathuna Cian O. (Microsystems Centre, Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland) ,  Kulkarni S. (Microsystems Centre, Tyndall National Institute, University College Cork, Cork, Ireland)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 8  号： 5  ページ： 056109-056109-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,Co-Zr-Ta-B非晶質薄膜の高周波透磁率スペクトルにおける多重モードの出現を調べた。異なる厚さ(t=100~530nm)の非晶質薄膜をDCマグネトロンスパッタリングにより蒸着した。それらの静的及び動的軟磁気特性を調べ,膜中の多磁性相の存在を調べた。厚膜(≧333nm)の二相磁気挙動を面内ヒステリシスループにより明らかにした。より厚い膜の高周波透磁率スペクトルに多重共鳴ピークを観測した。主強磁性共鳴(FMR)下の厚さ依存多重共鳴ピークは膜の二相磁気挙動に起因する。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 多モード ,  HF【周波数】 ,  厚膜 ,  透磁率 ,  スペクトル ,  共鳴 ,  多重化 ,  *ケイ素 ,  強磁性共鳴
準シソーラス用語： ヒステリシスループ ,  磁気的挙動 ,  磁性相 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  *非晶質薄膜 ,  *軟磁性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (4件)： 軟磁性 ,  シリコン ,  CO ,  非晶質薄膜