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J-GLOBAL ID：201802256378619807   整理番号：18A0818625

NiFe_2O_4とCoFe_2O_4薄膜における結晶学的組織化と基板誘起歪効果のマイクロ磁気解析【JST・京大機械翻訳】

Micromagnetic analysis of crystallographic texturing and substrate-induced strain effects in NiFe₂O₄ and CoFe₂O₄ thin films

著者 (3件)： Alvandi-Tabrizi Youness (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, North Carolina State University, Raleigh, NC, United States) ,  Schwartz Justin (Department of Materials Science and Engineering, North Carolina State University, Raleigh, NC, United States) ,  Schwartz Justin (Department of Engineering Science & Mechanics, The Pennsylvania State University, University Park, PA, United States)
資料名： Acta Materialia  (Acta Materialia)
巻： 149  ページ： 193-205  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 1359-6454  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶薄膜における磁化過程をシミュレートするために,三次元連続体ベースのマイクロ磁気モデルを開発し,NiFe_2O_4およびCoFe_2O_4薄膜の自発的ドメイン構造およびヒステリシス曲線に及ぼす結晶学的組織化,結晶粒サイズおよび基板誘起歪の影響を検討した。このモデルは,磁気モーメントの時間的および空間的分布を計算するために,磁気に対する機械的平衡およびGauss則と共にLandau-Lifshitz-Gil方程式を用いた。したがって,このアプローチは,非保存システムに用いられるフェーズフィールド法のカテゴリー内にある。有限要素法を用いて,各方程式に対する異なる離散化法を用いて,完全結合様式における偏微分方程式を解いた。この結果は,NiFe_2O_4薄膜よりCoFe_2O_4薄膜においてより強い感度を明らかにする異なる微細構造配向を採用することによって,磁化過程がどのように変化するかを実証した。さらに,基板誘起圧縮歪は面内磁化を促進し,一方,引張歪は面内から面外方向へ容易軸をスイッチすることを示した。モデルの妥当性を,ゾル-ゲル堆積NiFe_2O_4薄膜に対する最近公表された実験データとの結果を比較することにより検証した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 空間分布 ,  三次元 ,  微細構造 ,  磁気モーメント ,  連続体 ,  *薄膜 ,  多結晶 ,  ゾル-ゲル法 ,  結晶粒径 ,  *磁気 ,  *結晶学 ,  有限要素法
準シソーラス用語： 引張歪 ,  圧縮歪 ,  磁化過程 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： フェーズフィールドマイクロ磁気学 ,  磁気ヒステリシス ,  磁区 ,  多結晶膜 ,  エピタキシャル歪 ,  フェライト

分類 (1件)： 磁気的性質  (WB02020J)

タイトルに関連する用語 (7件)： 薄膜 ,  結晶学 ,  組織化 ,  誘起 ,  歪効果 ,  磁気 ,  解析