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J-GLOBAL ID：201802256492204271   整理番号：18A2217264

セシウムとエチレンを共挿入した剥離多層グラフェンの空気中の高い構造安定性【JST・京大機械翻訳】

High structural stability in air of exfoliated multilayer graphene co-intercalated with cesium and ethylene

著者 (2件)： Matsumoto R. (Faculty of Engineering,Tokyo Polytechnic University 1583 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan) ,  Akuzawa N. (Faculty of Engineering,Tokyo Polytechnic University 1583 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 246  ページ： 1-6  発行年： 2018年 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CSとエチレンを,高度に配向した熱分解グラファイト(HOPG)の開裂から調製した多層グラフェン(MLG)フレークを用いて,Cs-エチレン-グラファイト層間化合物(GIC)を形成するために共インターカレートした。得られた構造の空気安定性を,大規模集積回路(LSI)相互接続と透明導電性電極のような将来の応用の可能性のために,Raman散乱によって調べた。CsまたはFeCl_3インターカレートMLGと比較して,Cs-エチレン-MLGは,著しく高い構造空気安定性を持ち,そして,その初期段階2構造は,4週間の空気曝露後に維持された。対照的に,FeCl_3の主な脱インターカレーションはFeCl_3-MLGで起こった。Cs-MLGでは,いくつかの脱インターカレーションも起こったが,ステージ5構造は維持された。それらの構造における良好な空気安定性を有するCs-エチレン-MLGおよびCs-MLGは,n型伝導系を有することが期待される。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： インターカレーション ,  相互接続 ,  高配向性熱分解グラファイト ,  Raman分光法 ,  LSI【IC】 ,  フレーク ,  熱分解 ,  Raman散乱 ,  *セシウム ,  グラファイト ,  導電性 ,  アルケン
準シソーラス用語： 黒鉛層間化合物 ,  *構造安定性 ,  *多層グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 多層グラフェン ,  インタカレーション ,  CS ,  空気安定性 ,  Raman分光法

分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  太陽電池  (NC03084O)

物質索引 (1件)： エチレン

タイトルに関連する用語 (5件)： セシウム ,  エチレン ,  多層グラフェン ,  空気中 ,  構造安定性