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J-GLOBAL ID：201802256655877861   整理番号：18A0820090

光/電気化学によるラジカルに基づくC-N結合形成における最近の進歩【JST・京大機械翻訳】

Recent advances in radical-based C-N bond formation via photo-/electrochemistry

著者 (2件)： Zhao Yating (State Key Lab of Urban Water Resource and Environment, & School of Science, Harbin Institute of Technology (Shenzhen), Shenzhen 518055, China. [e-mail]) ,  Xia Wujiong
資料名： Chemical Society Reviews  (Chemical Society Reviews)
巻： 47  号： 8  ページ： 2591-2608  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0479B  ISSN： 0306-0012  CODEN： CSRVBR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミノ化のための遊離N-H結合を有する窒素源の使用は,特にC-H結合およびC-C二重/三重結合のような非官能化炭素源から調製されるとき,最も直接的で望ましいと考えられる。これは,出発物質における反応性基の事前設置の必要性を明らかにし,高原子および段階経済に導く。最近,ラジカル化学が有機合成におけるその大きな価値のために再懸濁され,光/電気技術によるラジカルに基づくC-N結合形成のためのN-H結合の直接使用において顕著な進歩がなされた。よく研究されているN-ラジカル種付加経路とは別に,ラジカル媒介アミノ化もN-原子求核付加,C-/N-ラジカル交差カップリング,および水素-原子移動(HAT)過程を経て進行した。このレビューは,関連する反応機構に重点を置いて,この分野における最近の進歩を強調する。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： C-H結合 ,  三重結合 ,  求核付加反応 ,  官能化 ,  *電気化学 ,  交差カップリング反応 ,  アミノ化 ,  *ラジカル
準シソーラス用語： 原子移動 ,  N-H結合 ,  再懸濁 ,  有機合成 ,  官能基 ,  窒素源 ,  *結合形成 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  有機化学反応一般  (CF02010Q)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電気化学 ,  ラジカル ,  C-N結合