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J-GLOBAL ID：201802256904180417   整理番号：18A0710553

反応性高周波マグネトロンスパッタリングにより蒸着した非晶質CuCrO_2:N薄膜の熱固相結晶化【JST・京大機械翻訳】

Thermal solid-phase crystallization of amorphous CuCrO2:N thin films deposited by reactive radio-frequency magnetron sputtering

著者 (5件)： Chiba Hiroshi (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Chiba Hiroshi (Research Fellow of Japan Society for the Promotion of Science, Koji-machi Business Center Building, 5-3-1 Koji-machi, Chiyoda-ku, Tokyo 102-0083, Japan) ,  Hosaka Naotoshi (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Kawashima Tomoyuki (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Washio Katsuyoshi (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 652  ページ： 16-22  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： p型透明導電性酸化物の候補材料の一つである高度に配向したデラフォサイトCuCrO_2(CCO)薄膜を作製するために,非晶質NドープCCO(CCO:N)膜の熱固相結晶化を調べた。非晶質CCO:N膜を,Ar/N_2ガス混合雰囲気中で反応性高周波スパッタリングにより室温で蒸着し,その後,それらをN_2中で焼成した。膜堆積中のN_2分圧(α_N2)と焼成温度(T_C)を,それぞれ0~90%と500~900°Cの範囲で変化させた。550°Cでの焼成により,c軸配向がα_N2に関係なく観察された。さらに,70と90%のα_N2において,CuCrO_2[110]//Al_2O_3[300]の6倍の対称性が800°C以上のT_Cで確認された。堆積したままのCCO:N膜の平均光透過率(λ=450~800nm)は45%で,c軸配向と同時に60%まで増加した。か焼したCCO:N膜の抵抗率は600°CまでのT_Cの増加と共に減少したが,650°CのT_Cでは劇的に再結合した。これは抵抗率が主に固有欠陥の数に影響されることを意味する。X線回折とX線光電子分光測定から,金属窒化物が堆積したままのCCO:N膜中に形成され,それはCu+とCuCrO2結合の生成を助けるために効果的に作用した。N原子は焼成中に脱着されたが,これらの望ましい結合の初期形成がデラフォサイト構造の配向を効果的に改善することを確認した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *固相 ,  酸化物 ,  RFスパッタリング ,  ドーピング ,  *非晶質 ,  X線回折 ,  *結晶化 ,  電気抵抗率 ,  X線光電子分光法 ,  *反応性 ,  *薄膜
準シソーラス用語： 光透過率 ,  c軸配向 ,  デラフォサイト ,  透明導電性酸化物 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： デラフォサイト酸化物 ,  半導体材料 ,  反応性高周波マグネトロンスパッタリング ,  固相結晶化 ,  サファイア ,  窒素ドーピング

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性 ,  高周波マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  非晶質 ,  薄膜 ,  固相 ,  結晶化