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J-GLOBAL ID:201802257305111759   整理番号:18A2022592

MOCVDにより成長させた2.05eV格子整合および変成(Al)GaInP太陽電池の比較研究【JST・京大機械翻訳】

Comparative Study of ~2.05 eV Lattice-Matched and Metamorphic (Al)GaInP Solar Cells Grown by MOCVD
著者 (5件):
資料名:
巻:号:ページ: 1601-1607  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2305A  ISSN: 2156-3381  CODEN: IJPEG8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,AlGaInP合金族に基づく二つの概念的に異なるアプローチを研究し,AM0多接合太陽電池の上部セルに使用するために,金属-有機化学蒸着成長2.05eVの直接バンドギャップ材料を作製した。第一のアプローチは,GaAsに格子整合させた(Al_0.32Ga_0.68)_0.52In_0.48P格子を介して,ターゲットバンドギャップを達成した。第二のアプローチは,緩和された格子不整合Ga_0.66In_0.34Pを介してターゲットバンドギャップを達成した。太陽電池特性化と分析装置モデリングは,両方のアプローチに対するメリットと課題を明らかにした。両方のデバイスはp型ベース内で同程度の少数キャリア拡散長と0.54Vの等しいバンドギャップ電圧オフセットを有することが分かり,効果的に類似したベース材料品質を示唆した。しかし,変成Ga_0.66In_0.34Pセルは,特に短波長において,すべての波長にわたって優れた量子効率を示した。モデリング結果は,内部格子整合Al_0.69In_0.31P窓のより広い直接バンドギャップに対する短波長応答の増強と,より長いエミッタ拡散長を属性とした。このように,無視できない格子不整合にもかかわらず,変成Ga_0.66In_0.34Pアプローチに対する増強された短波長応答は,本研究で用いた成長条件に関して,少なくとも有利であることを証明した。完全反射防止被覆の使用を仮定して,より広い直接バンドギャップ窓のみからのより低い寄生光吸収は,約0.72mA/cm2の付加的光電流を提供する。本研究で観測されたより高い品質のエミッタ層と組み合わせて,変成Ga_0.66In_0.34Pアプローチに対して,約1.1mA/cm2の付加的光電流が達成された。これらの値は2.05eVバンドギャップ太陽電池の全利用可能光電流の~3.9%と~6.0%に対応した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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