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J-GLOBAL ID：201802257668223069   整理番号：18A0672129

eXTP望遠鏡用W/Si多層膜【JST・京大機械翻訳】

DW/Si multilayer for eXTP mission

著者 (5件)： Qi Runze (同済大学物理科学与工程学院精密光学工程技術研究所教育部先進微結構材料重点実験室 ,上海,200092) ,  Huang Qiushi (同済大学物理科学与工程学院精密光学工程技術研究所教育部先進微結構材料重点実験室 ,上海,200092) ,  Yang Yang (同済大学物理科学与工程学院精密光学工程技術研究所教育部先進微結構材料重点実験室 ,上海,200092) ,  Zhang Zhong (同済大学物理科学与工程学院精密光学工程技術研究所教育部先進微結構材料重点実験室 ,上海,200092) ,  Wang Zhanshan (同済大学物理科学与工程学院精密光学工程技術研究所教育部先進微結構材料重点実験室 ,上海,200092)
資料名： Guangxue Jingmi Gongcheng  (Guangxue Jingmi Gongcheng)
巻： 25  号： 11  ページ： 2796-2802  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2090A  ISSN： 1004-924X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 増強型X線時間変化と偏光検出衛星(Extp)プロジェクトにおけるネスト型焦点イメージング望遠鏡による円柱面レンズ上のW/Si多層膜の要求に対して、入射角が0.5°で、動作周波数が1~30keVの条件下で。非周期W/Si多層膜を設計し,薄膜調製プロセスを最適化した。最初に,分離板とマスクを用いてスパッタ粒子をコリメーションし,真空度とスパッタリング圧力を同時に最適化し,膜の膜形成品質を向上させた。次に,スペーサの間隔と回転速度を調整することによって,円柱基板上の薄膜の均一性を向上させた。最後に,指数関数アルゴリズムを用いて非周期的多層膜を設計し,北京シンクロトロン放射光源における多点反射率試験を行い,理論的設計と一致する試験結果を得た。最適化された調製技術に基づき,周期数が80,周期が3.8nm,およびW膜厚が0.47のW/Si周期多層膜を作製し,その界面粗さは0.29nmで,円柱面鏡の厚み誤差は3%以内に制御できた。基本的に,ExTPプロジェクトにおける入れ子型すれすれ入射望遠鏡レンズ用の多層膜の膜厚,蒸着厚さ均一性,およびスペクトル応答幅の要求を満たすことができた。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アルゴリズム ,  *ケイ素 ,  レンズ ,  反射率 ,  画像処理 ,  薄膜 ,  すれすれ入射 ,  最適化 ,  円柱 ,  *多層膜 ,  膜厚 ,  入射角 ,  シンクロトロン放射 ,  経時変化 ,  *望遠鏡

著者キーワード (5件)： eXTP mission ,  interfacial roughness ,  thickness uniform ,  cylindrical mirror ,  depth-graded multilayer

分類 (1件)： X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 望遠鏡 ,  Si ,  多層膜