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J-GLOBAL ID：201802257815938606   整理番号：18A0821659

ルブレンの酸化とデバイス安定性に対する意味【JST・京大機械翻訳】

Oxidation of rubrene, and implications for device stability

著者 (10件)： Ly Jack T. (Department of Polymer Science and Engineering, University of Massachusetts Amherst, Amherst, Massachusetts 01003, USA. [e-mail]) ,  Lopez Steven A. ,  Lin Janice B. ,  Kim Jae Joon ,  Lee Hyunbok ,  Burnett Edmund K. ,  Zhang Lei ,  Aspuru-Guzik Alan ,  Houk K. N. ,  Briseno Alejandro L.
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 6  号： 14  ページ： 3757-3761  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1H NMRおよびUV-vis分光法により,ルブレンの迅速な自発的光酸化により,過酸化物,ルブレン-Ox1を生成することをモニターした。反応は熱的に可逆的で,結晶性薄膜と単結晶の両方において高移動度デバイスを回復させた。塩素化溶媒中での長時間撹拌は,単結晶分析により確認されたように,フェノールを失った二次,不可逆生成物,ルブレン-Ox2を生成した。ルブレン-Ox2を形成するための過酸化物の酸触媒転位を密度汎関数理論(DFT)により同定した。有機トランジスタの調製のためのこれらのプロセスの性質の意味について述べた。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 単結晶 ,  撹拌 ,  光酸化 ,  薄膜 ,  塩素化 ,  不可逆性 ,  *過酸化物 ,  結晶度 ,  陽子磁気共鳴 ,  密度汎関数法 ,  フェノール類
準シソーラス用語： 有機FET ,  酸触媒 ,  高移動度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 四環以上の炭素縮合多環化合物  (CF06090C)

物質索引 (2件)： フェノール ,  ルブレン

タイトルに関連する用語 (4件)： ルブレン ,  酸化 ,  安定性 ,  意味