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J-GLOBAL ID：201802258008259171   整理番号：18A1379921

マイクロおよびマクロ3D印刷構造のための減算フォトレジストプラットフォーム【JST・京大機械翻訳】

A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

著者 (12件)： Zieger Markus M. (Macromolecular Architectures, Institut fuer Technische Chemie und Polymerchemie, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstrasse 18, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Mueller Patrick (Institute of Applied Physics and Institute of Nanotechnology, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Wolfgang-Gaede-Strasse 1, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Mueller Patrick (Institute of Nanotechnology (INT), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344, Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Blasco Eva (Macromolecular Architectures, Institut fuer Technische Chemie und Polymerchemie, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstrasse 18, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Petit Charlotte (Macromolecular Architectures, Institut fuer Technische Chemie und Polymerchemie, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstrasse 18, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Hahn Vincent (Institute of Applied Physics and Institute of Nanotechnology, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Wolfgang-Gaede-Strasse 1, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Hahn Vincent (Institute of Nanotechnology (INT), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344, Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Michalek Lukas (School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering, Queensland University of Technology (QUT), 2 George St., QLD, 4000, Brisbane, Australia) ,  Mutlu Hatice (Macromolecular Architectures, Institut fuer Technische Chemie und Polymerchemie, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstrasse 18, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Wegener Martin (Institute of Applied Physics and Institute of Nanotechnology, Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Wolfgang-Gaede-Strasse 1, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Wegener Martin (Institute of Nanotechnology (INT), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344, Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Barner-Kowollik Christopher (School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering, Queensland University of Technology (QUT), 2 George St., QLD, 4000, Brisbane, Australia)
資料名： Advanced Functional Materials  (Advanced Functional Materials)
巻： 28  号： 29  ページ： e1801405  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1336A  ISSN： 1616-301X  CODEN： AFMDC6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 構造要素の選択的除去は,複雑な形状を可能にする3D印刷応用において決定的な役割を果たす。今日まで,マイクロスケールでの複雑な構造の作製は,多段階プロセスにより厳しく制限されている。ここでは,立体リソグラフィーによる巨視的構造への直接レーザ描画により,顕微鏡3D印刷から転写可能な減算フォトレジストプラットフォーム技術を報告した。すべてのレジスト成分は容易にアクセス可能で交換可能であり,レジストの特性プロファイルの高速適応を提供する。マイクロおよびマクロ印刷構造は,標準フォトレジストに基づく物体に影響することなく,容易な方法で取り除くことができる。この開裂を,時間経過光学顕微鏡および深い分光学的評価により解析した。印刷材料の機械的性質をナノインデンテーションにより調べた。臨界的に,マイクロスケールでの飛行特徴を持つ複雑な3D物体を構築することにより,減算レジストプラットフォームのパワーを実証した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高速度 ,  形態 ,  転写 ,  *フォトレジスト ,  *印刷 ,  *減算 ,  機械的性質 ,  ナノインデンテーション ,  リソグラフィー ,  微細構造 ,  光学顕微鏡 ,  *レジスト
準シソーラス用語： マイクロスケール ,  *三次元印刷 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 3D印刷 ,  直接レーザ描画 ,  微細構造 ,  光化学 ,  高分子材料 ,  ステレオリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： マクロ ,  3D印刷 ,  減算 ,  フォトレジスト ,  プラットフォーム