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J-GLOBAL ID:201802258423630643   整理番号:18A0937617

x=0.75と1.0の(Ag_xCu_1-x)(In_0.75Ga_0.25)Se_2の反応経路解析【JST・京大機械翻訳】

Reaction pathway analysis of (AgxCu1-x)(In0.75Ga0.25)Se2 with x = 0.75 and 1.0
著者 (4件):
資料名:
巻: 182  ページ: 142-157  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Ag(In_0.75Ga_0.25)Se_2膜の形成の間の反応経路を,5%Ar/H_2Se雰囲気下で450°Cでの急速熱処理を用いた時間進行反応のex-situキャラクタリゼーションによって研究した。エネルギー分散X線分光法(EDS)とX線蛍光(XRF)を用いた組成測定は,Ag/(Ag+Cu)=1.0で,Ga等級づけとSe取り込みが徐々に20分まで起こることを示した。7分の反応により,AgInSe_2相の兆候はなく,Ag(In,Ga)_5Se_8カルコゲン化物相のみが形成された。反応は20分以内にAg(In,Ga)Se_2とAg(In,Ga)_5Se_8の形成で完了した。前駆体へのCuの添加は,Ag/(Ag+Cu)=0.75が反応を加速し,Ag(In,Ga)_5Se_8相の形成を減少させる。EDSとXRF分析は,Ga等級づけとSe取り込みが10分後に完了したことを示した。XRD分析はまた,他のカルコゲナイド形成に先立ち3.5分の反応後にCuを含む試料の表面上にCuInSe_2が形成されることを示した。一方,強いAg(In,Ga)Se_2(112)XRDピークは100%Ag膜に対する10分反応と比較して5分反応後に現れた。基板からの剥離後の膜の裏面におけるEDSおよびRaman散乱測定は,Gaが45分反応後に膜の裏面にAgGaSe_2およびGa-Se相に蓄積することを示した。XRD分析は,AgがAg/(Ag+Cu)=1.0との反応の間に安定なζ-Ag_3(In,Ga)相に留まる傾向があるが,0.75とはそうではなく,これがより長い反応時間と不均一性を引き起こすことを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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