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J-GLOBAL ID：201802258463586233   整理番号：18A0400117

直線偏光2色場による光電子のサブサイクル干渉の強化【Powered by NICT】

Enhancing subcycle interference of photoelectron with a linearly polarized two-color field

著者 (11件)： Du Hongchuan (School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Du Hongchuan (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Li Jinbin (School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Li Jinbin (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Wang Huiqiao (Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China) ,  Yue Shengjun (School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Yue Shengjun (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Wu Hongmei (School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Wu Hongmei (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Hu Bitao (School of Nuclear Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China) ,  Hu Bitao (Key Laboratory of Special Function Materials and Structure Design, Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 381  号： 18  ページ： 1563-1567  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直線偏光二色場による光電子運動量分布におけるサブサイクル干渉パターンの増強を理論的に実証した。著者らの結果は,電子波束のイオン化時間は二色場における1本の光サイクルに限定されることを示した。三種類の支配的な干渉パターンのレーザの一ショットで同時に観察することができた。半古典的モデルの解析により,二種類の前方再散乱ホログラフィックパターンのP z>0の光電子運動量分布(Pはレーザ場の偏光方向に沿って運動量である)二干渉パターンを同定した。さらに,P z<0の光電子運動量分布における主な干渉構造を同定するための過渡電子密度法を導入し,P z<0の光電子運動量分布における主な干渉構造はサイクル内干渉に由来することを見出した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光電子 ,  電子密度 ,  運動量分布 ,  レーザ ,  再散乱 ,  イオン化 ,  *直線偏光 ,  *干渉 ,  *偏光 ,  粒状材 ,  運動量
準シソーラス用語： レーザ場 ,  電子波束 ,  干渉パターン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光電子ホログラフィー ,  2色場 ,  サイクル内干渉 ,  サブサイクル干渉 ,  過渡電子密度法

分類 (3件)： 光学一般  (BD03010Q) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 直線偏光 ,  2色 ,  光電子 ,  サブ ,  サイクル ,  干渉 ,  強化