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J-GLOBAL ID：201802258666425102   整理番号：18A0481030

レーザ改良ナノ粒子蒸着プロセスの制御された運動論的モンテカルロシミュレーション【Powered by NICT】

Controlled kinetic Monte Carlo simulation of laser improved nano particle deposition process

著者 (9件)： Song Ji-Hyeon (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Seoul National University, Seoul, Republic of Korea) ,  Song Ji-Hyeon (Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, USA) ,  Choi Kweon-Hoon (Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, USA) ,  Dai Ruonan (Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, USA) ,  Choi Jung-Oh (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Seoul National University, Seoul, Republic of Korea) ,  Ahn Sung-Hoon (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Seoul National University, Seoul, Republic of Korea) ,  Ahn Sung-Hoon (Institute of Advanced Machinery and Design, Seoul National University, Seoul, Republic of Korea) ,  Ahn Sung-Hoon (Institute of Engineering Research, Seoul National University, Seoul, Republic of Korea) ,  Wang Yan (Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, USA)
資料名： Powder Technology  (Powder Technology)
巻： 325  ページ： 651-658  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0730A  ISSN： 0032-5910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜被覆は電極,センサ及びエネルギーデバイスのような多くの応用において重要である。ナノ粒子堆積は被覆のための最も使用される付加的製造プロセスの一つである。効率,コスト有効性,制御膜特性の容易さの利点を持っている。最近の実験研究は,レーザ堆積プロセスの効率を高めることができることを示した。しかし,ナノ粒子に及ぼすレーザ処理効果の基本的理解,プロセス制御困難とアドホックを作るがまだ不足している。本研究では,ナノ粒子蒸着システムにおける膜の形態学的変化に及ぼすレーザ処理の影響を制御された速度論的モンテカルロ(cKMC)シミュレーションを用いて研究した。cKMCは古典的な速度論的モンテカルロ,大サイズ及び分子動力学よりも長い時間スケールを持つ原子レベルで制御され,自己集合過程の両方をシミュレートするために使用できる一般化バージョンである。本研究では,粗粒cKMCモデルは,拡散,レーザ照射,蒸着プロセスを同時にシミュレートするために構築した。シミュレーションモデルは,実験データで較正した。アルミナ粒子に及ぼす種々のレーザ照射条件を研究し,これは堆積した層の異なる厚さと多孔性をもたらした。観察バイアスと不一致を考慮したモデルの検証のために開発したGauss過程回帰モデリングアプローチ。シミュレーションの結果は実験結果と良く一致した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 生産工程 ,  薄膜 ,  *モンテカルロ法 ,  プロセス制御 ,  分子動力学 ,  被覆 ,  レーザ照射 ,  レーザ蒸着 ,  *レーザ ,  シミュレーションモデル ,  モルフォロジー ,  多孔性 ,  *シミュレーション ,  *ナノ粒子 ,  速度論

著者キーワード (6件)： レーザ焼結 ,  ナノ粒子蒸着システム ,  制御された速度論的モンテカルロ法 ,  薄膜分析 ,  Porosity ,  Gauss過程回帰

分類 (2件)： 固体の製造・処理一般  (XD03021O) ,  粉体工学  (XD03010M)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ ,  ナノ粒子 ,  蒸着プロセス ,  運動論的モンテカルロ ,  シミュレーション