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J-GLOBAL ID：201802259372805659   整理番号：18A1596910

ナノスケールBi系光触媒に関するレビュー【JST・京大機械翻訳】

Review on nanoscale Bi-based photocatalysts

著者 (5件)： He Rongan (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China. [e-mail]) ,  Xu Difa ,  Cheng Bei ,  Yu Jiaguo ,  Ho Wingkei
資料名： Nanoscale Horizons  (Nanoscale Horizons)
巻： 3  号： 5  ページ： 464-504  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2469A  ISSN： 2055-6764  CODEN： NHAOAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノスケールBiベース光触媒は可視光駆動光触媒環境修復とエネルギー変換の有望な候補である。しかしながら,バルクビスマス半導体の性能は不十分である。この光触媒ファミリーの性能を向上させる努力が増加している。多くの研究が,成分調整,形態制御,ヘテロ接合構築,および表面改質に関して報告されている。ここでは,ドーピング,変化する化学量論,固溶体,超薄ナノシート,階層的および中空構造,従来のヘテロ接合,直接Zスキーム接合,および導電性材料と半導体の表面改質を含むこれらの分野における最近の話題をレビューした。光吸収,バンド構造調整,励起キャリアの分離と利用を含む増強機構の進歩についても紹介した。ナノスケールBi系光触媒の研究における課題と傾向を議論し要約した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 半導体 ,  固溶体 ,  光吸収 ,  ドーピング ,  接合 ,  可視光 ,  *光触媒 ,  表面改質 ,  バンド構造 ,  ヘテロ接合 ,  ナノシート ,  励起 ,  エネルギー変換 ,  *ビスマス
準シソーラス用語： *ナノスケール , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノスケール ,  Bi ,  光触媒 ,  レビュー