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J-GLOBAL ID:201802259984287776   整理番号:18A1481738

N_2O_2Schiff塩基配位子を有する高分子ニッケル錯体におけるラジカル生成 in situ ESRおよびUV-Vis-NIR分光電気化学研究【JST・京大機械翻訳】

Radical formation in polymeric nickel complexes with N2O2 Schiff base ligands: An in situ ESR and UV-vis-NIR spectroelectrochemical study
著者 (7件):
資料名:
巻: 283  ページ: 1742-1752  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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一連の電気化学的に生成した高分子ニッケル(II)Schiff塩基錯体を,その場電子スピン共鳴(ESR)/紫外-可視-近赤外(UV-vis-NIR)分光電気化学およびサイクリックボルタンメトリーと水晶微量天秤(QCM)技術の組合せによって研究した。室温でのそれらの酸化中に記録されたポリ[Ni(Schiff)]膜のその場ESRとUV-vis-NIR(低エネルギーNIR範囲を含む)スペクトルの比較分析を行い,異なるドーピングレベルで高分子中の異なる電荷キャリアの形成を監視し,それらの構造とそれらの非局在化の程度を明らかにした。選択された電位範囲内での酸化によって達成された重合体ドーピングレベルを,サイクリックボルタンメトリーとQCM測定の結果を組み合わせることによって決定した。酸化ポリマーの分光学的性質と酸化還元過程で交換された単量体単位当たりの電子数に対する配位子のジアミン骨格とフェノラート部分における置換基の影響を詳細に研究した。全ての技術からのデータの統合により,ドープした高分子中に生成したラジカルカチオンの鎖間及び鎖内非局在化の存在を提案することができ,最も高いドーピングレベル(単量体単位当たり2つの正電荷まで)が高度に局在化したビフェノキシラジカル陽イオンを有するポリ[Ni(Schiff)]膜で得られることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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電気化学反応  ,  高分子固体の物理的性質 

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