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J-GLOBAL ID:201802260631095727   整理番号:18A0813781

還元-窒化法を用いた良分散柱状Si_3N_4の合成【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of well-dispersed columnar Si3N4 using carbothermal reduction-nitridation method
著者 (6件):
資料名:
巻: 331  ページ: 322-325  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0730A  ISSN: 0032-5910  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Si_3N_4は,その高い熱伝導率,高い電気抵抗率および低い誘電損失のために,熱伝導性フィラーとして多くの注目を集めている。本論文は,高いN_2圧力下でのユニークなCaF_2添加剤の支援による炭素熱還元-窒化(CRN)戦略による良く分散した柱状Si_3N_4粒子の調製を提示した。柱状粒子の平均直径は4μmで,アスペクト比は3であった。Si_3N_4粒子の固有成長機構に対する推測を暫定的に提案した。CaF_2は,SiO_2を含むCa含有液相を形成することによって,V-L-S(蒸気-液体-固体)経路を通して,柱状構造を有するβ-Si_3N_4の形成を促進することができると推測した。さらに,CaF_2の適切な含有量は,CaとFの蒸発速度が適切であるため,良好な分散性を有するSi_3N_4粒子の製造に有益である。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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固体の製造・処理一般  ,  セラミック・陶磁器の製造 
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