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J-GLOBAL ID:201802260741463442   整理番号:18A0813898

パルスレーザ蒸着によるグラフェン成長のためのNi-Cu触媒の構造効果【JST・京大機械翻訳】

Structural effect of Ni-Cu catalysts for graphene growth by pulsed laser deposition
著者 (5件):
資料名:
巻: 653  ページ: 93-100  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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異なるタイプのニッケル(Ni)-銅(Cu)基板上の高度に配向した幽門グラファイトターゲットから数層グラフェンを成長させるためにパルスレーザ蒸着を適用した。基板を2つの異なる構造で調製した。Ni-Cu二金属の異なる濃度比の合金と複合材料。X線回折と側面視野放出走査電子顕微鏡を用いて,二つの構造を分析し,検証した。グラフェン成長に及ぼす両基板の触媒効果をRaman分光法を用いて異なる成長温度で調べた。実験結果は,合金基板よりも複合材料の予想外の触媒効果の不一致をもたらした。複合材料基板は広い温度範囲にわたってユニークな二次元(2D)グラフェン層に対して優れた成長能力を示したが,高欠陥グラフェンは適切なNi対Cu比を有する合金基板上に成長した。複合基板の構造は,2D層の形成を促進するそれらの表面に特定の相互作用を課すことができた。これらの結果は,2段階の偏析過程による数層グラフェン成長のための高効率金属触媒のクラスを示唆し,複雑な基板上でのグラフェン成長の理解における基本的洞察を開いた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  その他の無機化合物の薄膜 

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