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J-GLOBAL ID：201802260771064899   整理番号：18A0971829

調整可能な衝撃密度プロファイルを持つレーザ-プラズマ加速器からの準単一エネルギー電子ビームの制御【JST・京大機械翻訳】

Control of quasi-monoenergetic electron beams from laser-plasma accelerators with adjustable shock density profile

著者 (13件)： Tsai Hai-En (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Swanson Kelly K. (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Barber Sam K. (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Lehe Remi (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Mao Hann-Shin (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Mittelberger Daniel E. (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Steinke Sven (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Nakamura Kei (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  van Tilborg Jeroen (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Schroeder Carl (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Esarey Eric (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Geddes Cameron G. R. (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Leemans Wim (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA)
資料名： Physics of Plasmas  (Physics of Plasmas)
巻： 25  号： 4  ページ： 043107-043107-11  発行年： 2018年 
JST資料番号： T0641B  ISSN： 1070-664X  CODEN： PHPAEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 衝撃誘起密度ダウンランプインジェクタにおける注入物理を特性化し,レーザプラズマ加速器(LPA)の正確な制御を実証した。ジェット-ブレード組立を用いて,衝撃角度,衝撃位置,アップランプ幅および加速長さを含む衝撃インジェクタプロファイルを系統的に変化させた。これらのパラメータを調整することにより,ビームエネルギー,エネルギー広がり,およびポインティングを制御できることを実証した。その結果,25~300MeVの範囲で8%のエネルギー拡散(ΔE_FWHM),1.5mradの発散,および0.35mradのポインティングゆらぎをもつ電子ビームが得られた。粒子インセルシミュレーションにより,衝撃角とアップランプ幅の変化が注入過程にどのように影響するかを特性化した。この高度に制御可能なLPAは,Thomson源や自由電子レーザなどのLPA応用に適したコンパクトな電子ビーム源である。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： FWHM ,  キャラクタリゼーション ,  *プラズマ加速器 ,  *電子ビーム ,  注入剤 ,  *衝撃 ,  レーザプラズマ ,  *加速器 ,  *レーザ ,  自由電子レーザ ,  *密度分布 ,  ゆらぎ
準シソーラス用語： ポインティングデバイス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： ビーム-プラズマ相互作用  (BJ02034N) ,  プラズマ波,プラズマ不安定性  (BJ02050T) ,  プラズマ流,プラズマの電磁流体力学  (BJ02040I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 衝撃 ,  密度プロファイル ,  レーザ ,  プラズマ加速器 ,  エネルギー ,  電子ビーム