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J-GLOBAL ID：201802260963064301   整理番号：18A0820610

【撤回論文】電着Ni-Feナノ粒状膜の成長における異常【JST・京大機械翻訳】

[RETRACTED]Anomalies in growth of electrodeposited Ni-Fe nanogranular films

著者 (12件)： Zubar T. I. (A.V. Luikov Heat and Mass Transfer Institute of the NAS of Belarus, 220072 Minsk, Belarus. [e-mail]) ,  Panina L. V. ,  Kovaleva N. N. ,  Sharko S. A. ,  Tishkevich D. I. ,  Vinnik D. A. ,  Gudkova S. A. ,  Trukhanova E. L. ,  Trofimov E. A. ,  Chizhik S. A. ,  Trukhanov S. V. ,  Trukhanov A. V.
資料名： CrystEngComm  (CrystEngComm)
巻： 20  号： 16  ページ： 2306-2315  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2462A  ISSN： 1466-8033  CODEN： CRECF4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 【撤回論文】W2462A「CrystEngComm」21巻14号に撤回記事掲載。---直接電流とパルス電流(異なるパルス幅)を用いてシリコン基板上への電着によりNi-Fe薄膜を作製した。Ni-Feナノグラニュラー膜の技術領域,化学組成および微細構造の間の相関を調べた。微細構造発達の解析は,10μs以下のパルス幅の短縮により,膜成長の機構がVolmer-Weber(島状膜成長)からStranski-Krastanov(層成長による層)へ変化することを明らかにした。この異常な挙動は,初期の膜原子と基板表面の間の結合エネルギーの増加によって説明された。結果は,10nmの臨界値より小さい平均結晶サイズを有する成長を確実にする電着レジームを用いることにより,より少ない粗さと欠陥性,およびより良い膜均一性が得られることを示した。Copyright 2019 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 薄膜成長 ,  薄膜 ,  *電着 ,  微細構造 ,  化学組成 ,  臨界定数 ,  結合エネルギー ,  パルス幅 ,  電流 ,  結晶
準シソーラス用語： グラニュラー薄膜 ,  シリコンウエハ ,  パルス電流 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電着 ,  Ni ,  Fe ,  成長