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J-GLOBAL ID:201802261187047772   整理番号:18A0295166

半ヘリカルアンテナにより励起されたヘリコンプラズマ源における指向性パワー吸収【JST・京大機械翻訳】

Directional power absorption in helicon plasma sources excited by a half-helix antenna
著者 (2件):
資料名:
巻: 19  号: 10  ページ: 35-43  発行年: 2017年 
JST資料番号: C2608A  ISSN: 1009-0630  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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本論文では13.56MHzで駆動された半螺旋アンテナを通して励起されたヘリコンプラズマにおけるパワー吸収の研究について述べた。シミュレーションは,コード,ヘリシティによって実行した。それらは,異なる不均一径方向密度分布を考慮し,1011cm-3から1013cm-3までの広範囲のプラズマ密度を考慮することにより行った。種々の体積勾配,エッジ勾配及び密度幅をもつ種々の密度プロフィルを発生させるために,磁場を200,400,600及び1000G A3パラメータ関数を用いて用いることにより,磁場により異なる密度分布が得られることを示した。密度プロフィルは,効率的な三角形-Gould(TG)とヘリコンモード励起およびプラズマに対するアンテナ結合に大きな影響を及ぼした。TGモードによるパワー堆積の割合は,プラズマ境界近傍のプラズマ密度に大きく依存した。興味あることに,得られた効率的な並列ヘリコン波長はGauss動径密度プロフィルに対する予想値に近かった。B0/n比が決定された密度幅に対して特定の値より大きいときには,パワー堆積はかなり非対称であった。縦方向のパワー吸収は,磁場に関係なく,約1011cm-3で対称的であった。プラズマ密度が1012cm-3のとき,非対称性はより顕著になった。磁場に対する密度幅の比は,パワー結合における重要なパラメータであった。高磁場において,パワー吸収の最大値は,より高いプラズマ密度幅に達した。プラズマ密度,磁場および密度幅の少なくとも1つの組合せがあり,管の両側におけるRF電力堆積が最大値に達した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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プラズマ装置 
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