ベンゾチオフェンおよびナフタレンの吸着に対するシリカゲル上のシラノール基の役割【Powered by NICT】

Fujiki Junpei; Fujiki Junpei; Yogo Katsunori; Furuya Eiji

文献

J-GLOBAL ID：201802261299483679 整理番号：18A0421782

ベンゾチオフェンおよびナフタレンの吸着に対するシリカゲル上のシラノール基の役割【Powered by NICT】

Role of silanol groups on silica gel on adsorption of benzothiophene and naphthalene

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資料名：
巻： 215 ページ： 463-467 発行年： 2018年
JST資料番号： C0023A ISSN： 0016-2361 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

輸送燃料からのチオフェン誘導体のような硫黄含有化合物の吸着除去を水素化脱硫プロセスと比較して,その経済的及び環境的利点のために広範な注目を集めている。著者らの以前の研究では,シリカ表面上のベンゾチオフェンおよびナフタレンの吸着サイトは,異なるタイプのシラノール基から構成されていることを示唆し,シリカ表面から隣接シラノールの除去はシリカ材料はベンゾチオフェンを選択的に吸着することができなければならない。本研究では,新しい脱硫収着剤の開発のためのこの仮説を証明した。シリカゲルの熱処理は,隣接シラノール基を除去するために種々の温度で行い,ベンゾチオフェンおよびナフタレンの吸着容量を評価した。熱処理したシリカゲル上に吸着したナフタレンの量は熱処理温度の上昇と共に低下したが,873と1073Kで処理したシリカゲル上に吸着したベンゾチオフェンの量はわずかな減少を示した。熱処理を考慮して表面シラノールの脱水に起因する隣接シラノールの除去につながる可能性がある,結果は隣接シラノール基がナフタレンの選択的吸着サイトであったことを示した。さらに,二成分系のための,ベンゾチオフェンおよびナフタレンの吸着容量は吸着したベンゾチオフェンに対するナフタレンの多分子層吸着のためにほぼ同一であった,単一および二成分系のためのベンゾチオフェンの吸着容量も同じであった。これはシリカの熱処理は,ベンゾチオフェンの選択的除去を可能にすることを示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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吸着剤

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