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J-GLOBAL ID:201802262360078454   整理番号:18A0405957

カプセル化触媒における金属(非)可給性に対する注意をもたらす【Powered by NICT】

Bringing attention to metal (un)availability in encapsulated catalysts
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 798-805  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2461A  ISSN: 2044-4761  CODEN: CSTAGD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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研究はシリカカプセル化Pd触媒(Pd@SiO_2)における金属サイトアベイラビリティの決定に焦点を当てた。既存の合成法は,高い金属負荷(6wt%まで)と空隙率(700m~2g~( 1)の表面積)を達成するために改変した8nmの元のPdナノ粒子サイズを維持した。二合成スキームは,カプセル化Pd NPsの使用されており,得られた触媒はPd粒子安定剤としてポリ(ビニルピロリドン)(PVP)の823Kまでの応用での希薄メタン燃焼で評価した,Pd接近に因り非常に低い活性を示すことを70m~2g~( 1)の表面積をもつ触媒をもたらすとしての可能性ポロゲン単独では勧めであると結論した。PVPの別々の導入と付加的なポロゲン(臭化セチルトリメチルアンモニウム,CTAB)により調製した高表面積材料(700m~2g~( 1))である活性と従来の触媒と同じターンオーバ頻度を示したが高い金属負荷のために,より小さな反応器サイズを必要とする。しかし,Pdナノ粒子表面の2/3が高度に多孔質な触媒でもシェル材料により阻害された。,シリカカプセル化触媒は高い質量活性の利点と金属コアの焼結抵抗を提供するが,それらの高い空隙率はStoeberプロセスの際のポロゲン(CTABなど)の添加により効率的な物質移動のための保証できなければならない。ある限界以上では,ポロゲン量の増加は金属へのアクセシビリティを改善しないと合成の間の貴重な金属損失につながるだけである。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
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電気化学反応  ,  光化学一般  ,  貴金属触媒  ,  酸化物の結晶成長 
タイトルに関連する用語 (4件):
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