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J-GLOBAL ID:201802262767436743   整理番号:18A1023717

CoFeAlSiホイスラー合金薄膜の磁気的,電気的および光学的性質に及ぼす温度効果【JST・京大機械翻訳】

Temperature effects on magnetic, electrical and optical properties of CoFeAlSi Heusler alloy thin films
著者 (6件):
資料名:
巻: 214  ページ: 355-358  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0934A  ISSN: 0254-0584  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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四元Co_2FeAl_0.5Si_0.5ホイスラー合金薄膜は,磁気電子デバイスへの応用に特別な注意を引き付けている。室温でのマグネトロンスパッタリングにより,CO_2FeAl_0.5Si_0.5合金薄膜を作製した。スパッタしたCo_2FeAl_0.5Si_0.5合金膜における磁気的,電気的および光学的性質に及ぼす温度効果を研究した。熱磁気測定により,結晶性強磁性秩序の増大に起因する磁化の増加を明らかにした。温度による電気抵抗率の異常な増加を,光学反射率の著しい変化を伴う合金膜において調べた。合金膜における電気的および光学的信号の大きな変化は,X線回折測定により確認された原子秩序化の遷移に起因すると考えられる。原子秩序化の変換に対する活性化障壁は1.22eVと決定され,ホイスラー合金薄膜の良好な熱安定性を示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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電気化学反応  ,  塩基,金属酸化物  ,  酸化物薄膜 
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