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J-GLOBAL ID:201802262841175581   整理番号:18A0481387

1.55μmフェムト秒レーザ励起下での強いテラヘルツ放射を用いたGaSb上のInAsのエピタキシャル成長【Powered by NICT】

Epitaxial growth of p-InAs on GaSb with intense terahertz emission under 1.55-μm femtosecond laser excitation
著者 (14件):
資料名:
巻: 648  ページ: 46-49  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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1.55μmフェムト秒レーザ励起THz放射効率との関連で評価し高品質InAs薄膜の分子ビームエピタクシー成長を報告した。p-InAsの存在は走査電子顕微鏡とX線回折により確認した。GaAsバッファ層を用いて,p-InAs層のエピタキシャル成長に成功した。成長中断によるGaAs堆積の開始,GaAs,GaSb基板に付着し,それに続く層のための準平面表面を与えることを見出した。も1.55μm波長のためのバルクp-InAsのそれに比べて約2倍であることをp-InAs膜のTHz放射強度の顕著な増強を見出した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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半導体薄膜 

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