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J-GLOBAL ID:201802263461465450   整理番号:18A0401935

450°C下の温度でのアクチュエータアレイのための圧電PZT薄膜の作製のための熱UV処理を用いた溶液ベースプロセス【Powered by NICT】

Solution-based process with thermal UV treatment for fabrication of piezoelectric PZT films for an actuator array at temperatures under 450°C
著者 (5件):
資料名:
巻: 267  ページ: 287-292  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0345C  ISSN: 0924-4247  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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低温ゾル-ゲル法によるジルコニウム酸チタン酸鉛(PZT)膜とアクチュエータの作製,熱的紫外/オゾン(UV/O_3)処理を導入することにより達成について報告した。スピンコートしたPZTゲル膜は,周囲O_3における加熱段階(200°C)にUV光を照射した,結晶化前にした。熱UV/O_3治療はPZTゲル膜,パイロクロア相の形成を阻害する内の還元性環境を作成し,450°Cでのアニーリング後にペロブスカイト相の直接形成をもたらす低温加工したPZT膜は(111)優先配向を示した。この作製法を用いたPZT膜得の残留分極,抗電場,及び漏れ電流は,23.6μC/cm~2,109.6kV/cm,10~ 6cm~2であった。も低温加工したPZT膜を用いたアクチュエータを作製した。最大変位は10Vで約130nmであり,これはシミュレーション結果の予測に近かった。提案したプロセスは他のシステムとPZT膜の統合のための大きな可能性を示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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圧電デバイス  ,  ロボットの設計・製造・構造要素 

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