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J-GLOBAL ID：201802263895720120   整理番号：18A1105649

フェリハイドライト-水界面における共存ヒ酸塩とニッケルイオンの存在状態 ATR-IR分光法による表面錯化と表面沈殿の機構【JST・京大機械翻訳】

Occurrence state of co-existing arsenate and nickel ions at the ferrihydrite-water interface: Mechanisms of surface complexation and surface precipitation via ATR-IR spectroscopy

著者 (7件)： Wang Chao (School of Medical Devices, Shenyang Pharmaceutical University, No. 103, Wenhua Road, Shenyang, 110016, China) ,  Wang Chao (Key Laboratory of Pollution Ecology and Environmental Engineering, Institute of Applied Ecology, Chinese Academy of Sciences, Shenyang, 110016, China) ,  Cui Yong (School of Medical Devices, Shenyang Pharmaceutical University, No. 103, Wenhua Road, Shenyang, 110016, China) ,  Zhang Jinghai (School of Medical Devices, Shenyang Pharmaceutical University, No. 103, Wenhua Road, Shenyang, 110016, China) ,  Gomez Mario (Shenyang University of Chemical Technology, 11 ST. Economic &Technological Development Zone, Shenyang, 110142, China) ,  Wang Shaofeng (Key Laboratory of Pollution Ecology and Environmental Engineering, Institute of Applied Ecology, Chinese Academy of Sciences, Shenyang, 110016, China) ,  Jia Yongfeng (Key Laboratory of Pollution Ecology and Environmental Engineering, Institute of Applied Ecology, Chinese Academy of Sciences, Shenyang, 110016, China)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 206  ページ： 33-42  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヒ素とニッケルは,多くの汚染された自然および採鉱環境に通常共存する一般的な汚染物質である。これらの2つの汚染物質の相互作用に関するより多くの研究が,鉱物-水界面におけるそれらの配位構造と発生状態のように必要である。本研究では,減衰全反射-Fourier変換赤外分光法(ATR-FTIR)を用いて,吸着過程,pH,エージング時間およびNi(II)濃度の順序を変化させることにより,フェリハイドライト-水界面での共存As(V)およびNi(II)イオンによって形成された表面錯体および表面析出物の構造を調べた。ATR-FTIR分析は,三成分表面錯体を生成する錯体化AsONi結合の存在を明らかにした。これらの三元系AsONi表面錯体は,フェリハイドライトの二元系AsOFe表面サイト錯体の上に層の交互配位によって層を通して形成された。このような多層表面錯体は,非晶質から結晶相への表面構造を微細化し,インキュベーション時間,多層表面錯体の被覆率,Ni(II)濃度およびpHの関数であることが分かった。ここで示した結果は,分子スケールでの表面析出物の形成過程を良く説明でき,自然または鉱山尾鉱の水-土壌環境で一般的に見られるフェリハイドライト-水界面での一般的なAs(V)とNi(II)種の運命と移動度を予測するのに使用できる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 汚染物質 ,  *沈殿 ,  精密化 ,  非晶質 ,  移動度 ,  錯体 ,  *錯体生成 ,  多層 ,  *界面 ,  ヒ素 ,  *ニッケル ,  *ヒ酸塩 ,  鉱物 ,  相互作用
準シソーラス用語： *フェリハイドライト , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ヒ素 ,  ニッケル ,  三成分表面錯体 ,  表面析出物 ,  フェリハイドライト ,  annabergite

分類 (2件)： 土壌汚染  (FB04100T) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W)

タイトルに関連する用語 (9件)： フェリハイドライト ,  水 ,  界面 ,  共存 ,  ヒ酸塩 ,  ニッケルイオン ,  ATR-IR分光法 ,  錯化 ,  沈殿