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J-GLOBAL ID:201802264006201166   整理番号:18A1799358

プリントCuベースエレクトロニクスの防食に対するベンゾトリアゾールとトリメチルシロキシシリケートの相乗効果【JST・京大機械翻訳】

The synergistic effect of benzotriazole and trimethylsiloxysilicate towards corrosion protection of printed Cu-based electronics
著者 (2件):
資料名:
巻: 143  ページ: 329-336  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0135B  ISSN: 0010-938X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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印刷エレクトロニクスの開発は従来の金属ベースエレクトロニクスの代替として多くの注目を集めており,主にプラスチック上の電子回路を印刷する能力と従来のマイクロエレクトロニクスと比較して非常に安価な手段によるものである。ここでは,印刷したCuナノ粒子上に疎水性を有する高耐食性被覆の単一段階形成について報告する。著者らの方法は,腐食抑制剤としてベンゾトリアゾール(BTA)と疎水性成分としてトリメチルシロキシケイ酸塩(TMS)の相乗効果に基づいている。そのようなTMS/BTA層で被覆されたPrintd-Cuは3.5%NaCl溶液中で優れた耐食性を示し,Cuの可溶性種への溶解を1桁減少させた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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防食 
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