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J-GLOBAL ID：201802264088799270   整理番号：18A0656443

比例制御電磁弁を用いた酸素濃度制御システムの開発

Development of Oxygen Concentration Control System Using Proportional Electromagnetic Valve

著者 (3件)： 天満晃希 (函館工業高等専門学校生産システム工学専攻1年) ,  千葉裕弥 (函館工業高等専門学校技術教育支援センター) ,  森谷健二 (函館工業高等専門学校生産システム工学科)
資料名： 函館工業高等専門学校紀要(Web)  (Research Reports Hakodate Technical College (Web))
巻： 52  ページ： 9-12(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0919A  ISSN： 2424-1962  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,迅速応答と高精度制御による任意の酸素(O₂)濃度の制御システムを開発することである。比例制御電磁弁は,1.25%のステップで流量を0%から100%(10l/min)まで変化させることができ,すなわち,実験室の酸素濃度を高精度に制御できる。さらに,30%酸素のガスを用いて,通常の空気条件に迅速に回復した。その結果,標的酸素濃度と実測値の間の平均差は,±0.35O±2%であり,以前のシステムのそれよりも大きかった。さらに,アンダーシュートと制御のオーバーシュートは,しばしば標的値付近に発生した。これらの誤差は非最適制御プログラムに起因するので,高精度酸素濃度に対して改善されなければならない。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *制御系 ,  *電磁弁 ,  オーバシュート ,  制御プログラム ,  最適制御 ,  測定データ ,  実験室 ,  測定精度 ,  濃度依存性 ,  *自動制御 ,  酸素
準シソーラス用語： アンダーシュート ,  高精度 ,  *酸素濃度 ,  *比例制御

著者キーワード (8件)： 制御システム ,  酸素濃度 ,  低酸素環境 ,  電磁弁 ,  制御システム ,  酸素濃度 ,  低酸素環境 ,  電磁弁

分類 (1件)： システム設計・解析  (IA02030D)

引用文献 (2件)：

• 1)古川椋:疾患時におけるニワトリ胚の体動解析,平成25年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会, (2013).
• 2)中村諒平:Arduinoを用いた酸素濃度制御システムの開発,平成25年度函館工業高等専門学校卒業論文,(2013).

タイトルに関連する用語 (5件)： 比例制御 ,  電磁弁 ,  酸素濃度 ,  制御システム ,  開発