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J-GLOBAL ID：201802265053547696   整理番号：18A0163545

成熟25Gb/sシリコンフォトニックプラットフォーム上の不均一とマルチレベル統合【Powered by NICT】

Heterogeneous and multi-level integration on mature 25Gb/s silicon photonic platform

著者 (7件)： Malhouitre S. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Szelag B. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Brision S. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Wilmart Q. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Fowler D. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Dupre C. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France) ,  Kopp C. (Univ. Grenoble Alpes, CEA, LETI, DOPT, LP2C, F-38000, Grenoble, France)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： ICSJ  ページ： 223-226  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 完全25GB/Sシリコンフォトニクスプラットフォームをこの文献において記述すると,複数のけい素,窒化けい素,エッジ結合処理または調整可能な集積レーザを可能にする不均一材料の統合など,このプラットフォームを改善することを目指す新しい技術的課題を議論した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： レーザ ,  窒化ケイ素 ,  *ケイ素
準シソーラス用語： 技術課題 ,  *マルチレベル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 成熟 ,  不均一 ,  マルチレベル ,  統合