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J-GLOBAL ID：201802265744524723   整理番号：18A1391319

原子層堆積によるCuおよびFe粉末の酸化障壁【JST・京大機械翻訳】

Oxidation barrier of Cu and Fe powder by Atomic Layer Deposition

著者 (10件)： Cremers Veronique (Department of Solid State Sciences, Ghent University, Krijgslaan 281/S1, B-9000 Ghent, Belgium) ,  Rampelberg Geert (Department of Solid State Sciences, Ghent University, Krijgslaan 281/S1, B-9000 Ghent, Belgium) ,  Barhoum Ahmed (Chemistry Department, Faculty of Science, Helwan University, Cairo 11795, Egypt) ,  Walters Perry (Chemistry Department, Faculty of Science, Helwan University, Cairo 11795, Egypt) ,  Claes Nathalie (Electron Microscopy for Materials Research (EMAT), University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, Antwerp 2020, Belgium) ,  Oliveira Thais Milagres de (Electron Microscopy for Materials Research (EMAT), University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, Antwerp 2020, Belgium) ,  Assche Guy Van (Physical Chemistry and Polymer Science, Vrije Universiteit Brussel (VUB), Pleinlaan 2, 1050 Brussels, Belgium) ,  Bals Sara (Electron Microscopy for Materials Research (EMAT), University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, Antwerp 2020, Belgium) ,  Dendooven Jolien (Department of Solid State Sciences, Ghent University, Krijgslaan 281/S1, B-9000 Ghent, Belgium) ,  Detavernier Christophe (Department of Solid State Sciences, Ghent University, Krijgslaan 281/S1, B-9000 Ghent, Belgium)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 349  ページ： 1032-1041  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層堆積(ALD)は,原子スケールで厚さを制御した均一で共形の膜を堆積することを可能にする蒸気ベースの技術である。本研究において,Al_2O_3コーティングを,回転ポンプ型ALD反応器において,熱トリメチルアルミニウム(TMA)/水(H_2O)プロセスを用いて,マイクロメータサイズのFeおよびCu粉末(粒子)上に蒸着した。堆積中の粉末の回転はピンホールのないALD被覆を得るために必要であった。酸化アニーリング処理中の金属粒子の保護におけるその有効性を定量化することにより,被覆の保護特性を評価した。Al_2O_3被覆粉体を大気中でアニールし,その場熱重量分析(TGA)とその場X線回折(XRD)データを得た。種々のAl_2O_3厚さを有する一連のCuおよびFe粉末の熱安定性をTGAで測定した。両試料において,酸化温度の明確なシフトが見られた。25nmのAl_2O_3で被覆したCuおよびFe粉末に対して,300~400°Cで酸化温度の上昇を観察した。Cu粉末に対しては,200°Cの酸化温度の初期増加を得るために,わずか8nmの薄膜が必要である。対照的に,Fe粉末では25nmのより厚い被覆が必要である。両ケースにおいて,酸化温度はAl_2O_3被覆の厚さの増加と共に増加した。これらの結果は,熱ALDプロセス(TMA/H_2O)によって蒸着したAl_2O_3薄膜が,十分な蒸気-固体相互作用を確実にするためにプロセス中に適切に撹拌されることを示す,マイクロメータサイズの粉末粒子のための効率的でピンホールのないバリア層であることを示す。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *鉄粉 ,  マイクロメータ ,  焼なまし ,  X線回折 ,  熱重量分析 ,  相互作用 ,  *酸化 ,  薄膜 ,  熱安定性 ,  *鉄 ,  *粉体 ,  銅粉 ,  被覆 ,  *銅
準シソーラス用語： 金属粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 原子層堆積 ,  ALD ,  粉体 ,  酸化障壁

分類 (3件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  溶射  (WC08030N)

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子層堆積 ,  Cu ,  Fe粉末 ,  酸化 ,  障壁