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J-GLOBAL ID：201802265970454210   整理番号：18A0795158

低エネルギー高線量Ag+イオン注入により形成した多孔質ゲルマニウム【JST・京大機械翻訳】

Porous germanium formed by low energy high dose Ag⁺-ion implantation

著者 (8件)： Stepanov A.L. (Kazan Physical-Technical Institute, Russian Academy of Sciences, 420029, Kazan, Russia) ,  Stepanov A.L. (Kazan Federal University, 420008, Kazan, Russia) ,  Stepanov A.L. (Kazan National Research Technological University, 420015, Kazan, Russia) ,  Nuzhdin V.I. (Kazan Physical-Technical Institute, Russian Academy of Sciences, 420029, Kazan, Russia) ,  Valeev V.F. (Kazan Physical-Technical Institute, Russian Academy of Sciences, 420029, Kazan, Russia) ,  Rogov A.M. (Kazan Federal University, 420008, Kazan, Russia) ,  Vorobev V.V. (Kazan Federal University, 420008, Kazan, Russia) ,  Osin Y.N. (Kazan Federal University, 420008, Kazan, Russia)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 152  ページ： 200-204  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単結晶c-Ge金属イオンの低エネルギー高線量注入に基づくAgナノ粒子を有する薄い多孔質PGe層の合成のための技術的アプローチを提案した。この方法の成功を実証するために,1.5~17イオン/cm2の線量と5μA/cm2の電流密度で,30keVのエネルギーで研磨したc-Ge基板のAg+イオン注入を行った。走査電子顕微鏡と原子間力顕微鏡の方法,ならびにEDX分析と電子後方散乱回折により,c-Ge表面への注入の結果として,多孔質非晶質PGe層が,平均直径約10~20nmのGeナノワイヤを交差するネットワークから成る海綿状構造で形成されることを示した。ナノワイヤの末端では,Agナノ粒子の合成が観察された。Ag+イオン注入中の細孔の形成はGe表面の効率的なスパッタリングを伴うことが分かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *多孔性 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  ナノワイヤ ,  金属イオン ,  *イオン注入 ,  電流密度 ,  走査電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  単結晶 ,  *放射線量 ,  非晶質 ,  *ゲルマニウム ,  細孔
準シソーラス用語： 銀ナノ粒子 ,  *低エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 多孔質ゲルマニウム ,  イオン注入 ,  銀ナノ粒子

分類 (1件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低エネルギー ,  線量 ,  イオン注入 ,  多孔質 ,  ゲルマニウム