文献

J-GLOBAL ID：201802266022755876   整理番号：18A1758459

光-塩基発生剤と酸性現像剤を用いた反応現像画像形成による微細パターン形成

Formation of Fine Pattern by Reaction Development Patterning Using Photo-Base Generator and Acidic Developers

著者 (3件)： Tokoro Yuichiro (Department of Advanced Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Yokohama National University) ,  Hayashi Hiromi (Department of Advanced Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Yokohama National University) ,  Oyama Toshiyuki (Department of Advanced Materials Chemistry, Faculty of Engineering, Yokohama National University)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 31  号： 5  ページ： 613-616(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリアセタールに適用できる反応現像画像形成(RDP)を,逆酸-塩基条件,すなわち光-塩基発生剤と酸性現像剤を用いて研究した。光塩基発生剤としてのポリアセタール,O-フェニルアセチル2-アセトナフトンオキシム,光増感剤としてのベンゾフェノンからなるポリアセタールからなる膜は超高圧水銀ランプによる照射後に正のトーン画像を示し,カルボン酸,メタンスルホン酸または硫酸を含む現像液に連続浸漬した。非曝露領域での厚さの減少は,ポリアセタールへのトリフルオロメチル基の合体により阻害された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ポリアセタール ,  *固体素子 ,  パターン形成 ,  *光重合 ,  光増感剤 ,  水銀ランプ ,  光塩基発生剤 ,  現像液 ,  芳香族ケトン
準シソーラス用語： 現像剤 ,  *固体デバイス ,  微細パターン形成

著者キーワード (4件)： 反応開発パターン形成 ,  感光性ポリアセタール ,  光ベース発電機 ,  ポジティブトーンパターン

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (2件)： (E)-[1-(ナフタレン-2-イル)エチリデン]アミノ 2-フェニルアセタート ,  ベンゾフェノン

引用文献 (22件)：

• 1. T. Ogura, T. Higashihara, and M. Ueda, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 48 (2010) 1317.
• 2. Y. Li, X. Zhang, Q. Zhang, X. Wang, D. Cao, Z. Shi, D. Yan, and Z. Cui, RSC Adv., 6 (2016) 5377.
• 3. X. Fei, Y. Shi, and Y. Cao, Appl. Phys. A, 100 (2010) 409.
• 4. K.-i. Furukawa and M. Ueda, Polym. J., 40 (2008) 281.
• 5. C. Decker, Prog. Polym. Sci., 21 (1996) 593.

タイトルに関連する用語 (6件)： 塩基 ,  酸性 ,  現像剤 ,  現像 ,  画像形成 ,  微細パターン形成